应用材料公司蔡启铭获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利用以改进利用两次曝光的数字光刻的工艺窗及分辨率的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116261689B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180063539.X，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权用以改进利用两次曝光的数字光刻的工艺窗及分辨率的方法是由蔡启铭设计研发完成，并于2021-09-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本用以改进利用两次曝光的数字光刻的工艺窗及分辨率的方法在说明书摘要公布了：本文描述的实施方式涉及在光刻环境中印刷双重曝光图案的方法。所述方法包括在光刻工艺中利用第一曝光图案确定要曝光的第二曝光图案。第二曝光图案由基于规则的处理流程或光刻模型处理流程确定。
本发明授权用以改进利用两次曝光的数字光刻的工艺窗及分辨率的方法在权利要求书中公布了：1.一种印刷双重曝光图案的方法，包括： 接收限定光刻工艺的第一曝光图案的数据，所述第一曝光图案包括一或更多个多边形； 基于限定所述第一曝光图案的所述数据确定第二曝光图案的位置及宽度，其中所述第二曝光图案被限制在所述第一曝光图案内； 确定在所述光刻工艺期间要向所述第一曝光图案施加的图案偏差，所述第一曝光图案的所述图案偏差基于所述第二曝光图案的所述位置及所述宽度来确定； 将所述第一曝光图案的所述数据及指示所述图案偏差的数据转换成第一虚拟掩模文件； 在无掩模光刻装置中使用所述第一虚拟掩模文件对基板进行图案化； 将所述第二曝光图案的数据转换成第二虚拟掩模文件；及 使用所述第二虚拟掩模文件在所述无掩模光刻装置中对所述基板进行图案化。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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