卡姆特有限公司E·塞格夫获国家专利权
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龙图腾网获悉卡姆特有限公司申请的专利连续凸块测量高度计量法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116157651B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202180061011.9,技术领域涉及:G01B11/06;该发明授权连续凸块测量高度计量法是由E·塞格夫设计研发完成,并于2021-07-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本连续凸块测量高度计量法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种方法,该方法可以包括通过用第一辐射照射凸块和相应区域,执行所述凸块和相应区域之间的高度差的第一测量;其中,所述第一测量受到第一测量误差的影响,所述第一测量误差由第一照明虚拟穿透到层中导致;其中,每个凸块具有邻近所述凸块的相应区域;对位于所述相应区域的层的厚度执行第二测量;其中,至少一些所述第一测量与至少一些所述第二测量的执行并行地执行;根据所述第二测量确定第一测量误差;以及根据所述第一测量及所述第一测量误差确定所述凸块与相应区域之间的高度差。
本发明授权连续凸块测量高度计量法在权利要求书中公布了:1.一种用于测量多个凸块的顶部与层的上表面的相应区域之间的高度差的方法,所述方法包括: 通过用相对于与所述层的垂直方向成角度α的第一辐射照射所述凸块和相应区域,执行所述凸块和相应区域之间的高度差的第一测量; 其中,所述第一测量受到第一测量误差的影响,所述第一测量误差由所述第一辐射虚拟穿透到层中导致, 其中,每个凸块具有邻近所述凸块的相应区域; 对位于所述相应区域处的层的厚度执行第二测量, 其中,至少一些所述第一测量与至少一些所述第二测量的执行并行地执行; 根据通过所述第二测量测量的所述层的厚度b,所述角度α以及所述层的折射率n确定第一测量误差;以及 根据所述第一测量及所述第一测量误差确定所述凸块与相应区域之间的高度差。
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