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龙图腾网获悉苏州源展材料科技有限公司申请的专利一种快速消减ICP-MS测定中Hf记忆效应的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115656309B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210857027.7，技术领域涉及：G01N27/626；该发明授权一种快速消减ICP-MS测定中Hf记忆效应的方法是由张跃来设计研发完成，并于2022-07-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种快速消减ICP-MS测定中Hf记忆效应的方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种快速消减ICP‑MS测定中Hf记忆效应的方法，包括以下步骤：采用HF溶液、HF与HNO3混合溶液、HF与H2O2混合溶液依次对进样系统进行清洗，重复清洗步骤至Hf元素信号降至要求值；所述HF溶液的浓度为2％‑5％，所述HF与HNO3混合溶液中各组分的浓度为2％‑5％，所述HF与H2O2混合溶液中HF的浓度为2％‑5％、H2O2的浓度为20％‑40％。本发明根据Hf残留物在ICP‑MS进样系统中吸附能力的强弱，采用不同溶液依次洗涤，清洗过程简单、易监控，能在短时间内快速清除进样系统中的Hf，有效消减ICP‑MS测定中Hf的记忆效应，提高ICP‑MS检测Hf以及受其干扰的Yb、Lu、Ta、W、Rb、Sr、Y、Zr、Ba等元素含量的准确性。

本发明授权一种快速消减ICP-MS测定中Hf记忆效应的方法在权利要求书中公布了：1.一种快速消减ICP-MS测定中Hf记忆效应的方法，其特征在于，包括以下步骤： 1采用HF溶液、HF与HNO3混合溶液、HF与H2O2混合溶液依次对ICP-MS进样系统进行清洗，最后采用超纯水进行清洗，其中，采用HF溶液、HF与HNO3混合溶液、HF与H2O2混合溶液依次清洗10-15分钟，超纯水清洗过程不低于10分钟；所述HF溶液的质量浓度为2%-5%，所述HF与HNO3混合溶液中各组分的质量浓度为2%-5%，所述HF与H2O2混合溶液中HF的质量浓度为2%-5%、H2O2的质量浓度为20%-40%； 2清洗过程中监测Hf元素信号值，重复清洗步骤至Hf元素信号降至要求值；所述要求值为0-50cps； 在含Hf样品测试阶段，采用硝酸和氢氟酸的混合溶液作为含Hf样品的介质，所述含Hf样品为用于原子沉积技术中的铪前驱体源。

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