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龙图腾网获悉西实显示高新材料(沈阳)有限公司申请的专利基片加工设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115560623B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211172158.8，技术领域涉及：F28D21/00；该发明授权基片加工设备是由赵成伟;邬文波设计研发完成，并于2022-09-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本基片加工设备在说明书摘要公布了：本发明涉及一种基片加工设备，基片加工设备设有内腔，基片加工设备包括：壁板及外板。壁板用于形成内腔的边界；外板设置于壁板背向内腔的一侧；外板与壁板之间设有间隙，以形成用于通过第一冷却流体的流通空间。由于壁板形成了内腔的边界面，当基片接受加工处理时，在内腔中所产生的一部分热量传递至壁板。第一冷却流体通入流通空间时，第一冷却流体能与壁板朝向于外板的一侧产生热传递。由于第一冷却流体通过壁板与外板之间的间隙流动，从而使第一冷却流体与壁板之间具有较大的接触面积，有效提升了第一冷却流体吸收热量的效率及内腔冷却的效率，使内腔不容易上升至较高的温度，保证基片的工艺处理稳定运行，防止基片的加工受到影响。

本发明授权基片加工设备在权利要求书中公布了：1.一种基片加工设备，设有内腔，其特征在于，所述基片包括玻璃，所述基片加工设备包括： 壁板，用于形成所述内腔的一部分边界； 等离子产生装置，用于产生等离子，所述等离子用于对基片表面进行清洗处理或蚀刻处理； 面板，用于形成所述内腔的其他边界，所述面板设有分别连通所述内腔的第一通口和第二通口，所述第一通口用于供载具进出所述内腔，所述第二通口用于安装所述等离子产生装置，所述等离子产生装置嵌设于第二通口，并于所述第二通口的边缘密封贴合，以使内腔能够处于真空环境；及 外板，设置于所述壁板背向所述内腔的一侧，所述外板与所述壁板之间设有间隙，以形成用于通过第一冷却流体的流通空间，所述流通空间包括多个平流段及多个折流段，所述平流段及所述折流段分别能够通过所述第一冷却流体，多个所述平流段排列分布，所述平流段的一端经一个所述折流段流通至另一个所述平流段，另一端则经另一个所述折流段连通至又一个所述平流段； 所述基片加工设备还包括设置于所述流通空间内的挡条，所述挡条的长度方向至少部分地平行于所述第一冷却流体在所述流通空间内的流动方向，所述挡条用于引导所述第一冷却流体冲向所述壁板，所述挡条外侧形成有螺纹； 所述基片加工设备设有用于通入第二冷却流体的外流道，所述外流道处于所述外板背向所述壁板的一侧，所述基片加工设备包括连接于所述外板的管壳，所述管壳的内壁面与所述外板的外表面之间形成所述外流道，所述外板的一部分表面形成所述外流道的边界，所述管壳沿所述外板的外表面呈若干个几字型分布设置，所述外板的外表面处于所述外板背向壁板的一侧，所述基片加工设备还包括若干容置于所述内腔的引管，所述引管设置于所述壁板与处理工位之间，所述处理工位背向所述引管的一侧设有所述等离子产生装置。

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