株式会社斯库林集团秋山刚志获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社斯库林集团申请的专利衬底处理方法及衬底处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115360118B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210543393.5，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权衬底处理方法及衬底处理装置是由秋山刚志;高桥朋宏;佐佐木光敏设计研发完成，并于2022-05-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本衬底处理方法及衬底处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法是在处理槽3中，以含有磷酸的蚀刻液E蚀刻具有交替积层的硅氧化膜Ma与硅氮化膜Mb的衬底W的方法。衬底处理方法包含：将衬底W浸渍在蚀刻液E中的步骤S1；及在衬底W的蚀刻中，对处理槽3内的蚀刻液E补充磷酸，使蚀刻液E的硅浓度变化的步骤S2。
本发明授权衬底处理方法及衬底处理装置在权利要求书中公布了：1.一种衬底处理方法，在处理槽中，以含有磷酸的蚀刻液蚀刻具有交替积层的硅氧化膜与硅氮化膜的衬底，且包含： 将所述衬底浸渍在所述蚀刻液中的步骤；及 在蚀刻所述衬底的期间，以所述处理槽内的所述蚀刻液的硅浓度显示特定变化的方式对所述处理槽内的所述蚀刻液补充磷酸，使所述蚀刻液的硅浓度变化的步骤，所述特定变化是由第1浓度缓慢增加到第2浓度附近，且在所述第2浓度附近更缓慢地增加而达到所述第2浓度， 使所述蚀刻液的硅浓度变化的步骤中，基于存储着与所述蚀刻液的硅浓度的所述特定变化对应的数据的存储部的所述数据，以蚀刻所述衬底的期间测量出的所述蚀刻液的硅浓度追随所述特定变化的方式，控制所述磷酸的补充流量。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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