TDK电子股份有限公司D·科尔泽克获国家专利权
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龙图腾网获悉TDK电子股份有限公司申请的专利用于产生介电阻挡放电的装置和用于处理有待活化的物体的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115104171B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080093251.2，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权用于产生介电阻挡放电的装置和用于处理有待活化的物体的方法是由D·科尔泽克;S·内特斯海姆;F·弗罗因德设计研发完成，并于2020-12-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于产生介电阻挡放电的装置和用于处理有待活化的物体的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种用于产生介电阻挡放电的装置，该装置用于用非热大气压等离子对有待活化的物体1进行处理，该装置包括：介电的作用腔室2，该介电的作用腔室具有由介电材料构成的壁3并且该介电的作用腔室包围着作用空间4，其中，在壁3的离开作用空间4指向的外侧5上施加金属化结构6，其中，作用空间4是敞开的空间；和高压源9，该高压源设计用于，在有待活化的物体1处于作用空间4中时，将高压加载到金属化结构6处或者加载到有待活化的物体1处。按照另一方面，本发明涉及一种用于用非热大气压等离子对有待活化的物体1进行处理的方法。
本发明授权用于产生介电阻挡放电的装置和用于处理有待活化的物体的方法在权利要求书中公布了：1.用于产生介电阻挡放电的装置，该装置用于用非热大气压等离子对有待活化的物体1进行处理，该装置具有： -介电的作用腔室2，所述介电的作用腔室具有由介电材料构成的壁3，并且所述介电的作用腔室包围着作用空间4，其中，在所述壁3的离开作用空间4指向的外侧5上施加金属化结构6，其中，所述金属化结构6是材料锁合地施加在所述壁3上的金属层，其中，所述金属化结构6具有向外伸出的凸起6a，该凸起能够实现对所述金属化结构6的接触，其中，所述作用空间4是敞开的空间；和 -高压源9，所述高压源设计用于，在所述有待活化的物体1布置在所述作用空间中时，将高压加载到所述金属化结构6处或者加载到所述有待活化的物体1处。
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