ASML荷兰有限公司M·R·格雷厄姆获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利用于在EUV光源中进行源材料调节的激光系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114271032B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080058626.1，技术领域涉及：H05G2/00；该发明授权用于在EUV光源中进行源材料调节的激光系统是由M·R·格雷厄姆;S·里奇;S·W·麦克罗根设计研发完成，并于2020-08-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于在EUV光源中进行源材料调节的激光系统在说明书摘要公布了：公开了一种装置和方法，其中预脉冲能量的液滴外测量代替液滴上测量被用于脉冲能量控制。预脉冲能量在液滴外非曝光时段期间测量并且被控制到预脉冲能量设定点。然后预脉冲能量可以在液滴上时段期间被开环控制到预脉冲能量设定点。这有效地将EUV剂量控制回路与预脉冲能量控制回路解耦，并且避免了耦合这种回路的负面影响，例如，损失剂量控制器可用的剂量调节范围的一部分。
本发明授权用于在EUV光源中进行源材料调节的激光系统在权利要求书中公布了：1.一种用于使用源材料生成极紫外辐射的装置，所述装置被配置为以曝光模式和非曝光模式操作，在所述曝光模式下，所述源材料被脉冲辐照，在所述非曝光模式下，所述源材料未被辐照，所述装置包括： 辐射源，被配置为在所述非曝光模式期间生成至少一个液滴外脉冲、并且在所述曝光模式期间生成多个液滴上脉冲；以及 能量控制器，被配置为在所述非曝光模式期间执行所述至少一个液滴外脉冲的能量测量，并且至少部分基于所述至少一个液滴外脉冲的所述能量测量将脉冲能量驱动到脉冲能量设定点，所述辐射源还被配置为在所述曝光模式期间生成具有处于所述脉冲能量设定点的能量的所述液滴上脉冲。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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