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龙图腾网获悉环球展览公司申请的专利气相沉积系统在受限空间中的高度测量和控制获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113964283B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110818288.3，技术领域涉及：H10K71/16；该发明授权气相沉积系统在受限空间中的高度测量和控制是由M·金;格雷格·科塔斯;I·科津;格雷戈里·麦格劳;威廉·E·奎因设计研发完成，并于2021-07-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本气相沉积系统在受限空间中的高度测量和控制在说明书摘要公布了：本申请涉及气相沉积系统在受限空间中的高度测量和控制。所公开主题的实施例提供一种具有印刷头的装置，所述印刷头包括沉积器的微喷嘴阵列以将材料沉积在衬底上。反射式光学装置可以反射由至少一个光学传感器输出的信号，并将所述信号从所述衬底的表面反射到所述光学传感器。处理器可测定所述光学传感器与所述衬底的目标表面之间的距离。所述装置可以包括一或多个致动器，其耦合于所述至少一个印刷头，以相对于内部参考框架移动所述印刷头，并调整所述印刷头相对于所述衬底的位置。所述传感器可以用安装件固定地耦合于所述内部参考框架。所述印刷头可经配置以独立于所述光学传感器在至少一个线性或旋转运动轴上移动。

本发明授权气相沉积系统在受限空间中的高度测量和控制在权利要求书中公布了：1.一种制造装置，所述制造装置用于制造有机发射装置、或用于制造包括有机发射装置的设备，其中所述制造装置包含： 至少一个印刷头，其包括沉积器的微喷嘴阵列以将材料沉积在衬底上； 至少一个光学传感器，其用于每个印刷头的所述沉积器的微喷嘴阵列以输出信号； 反射式光学装置，其安置于所述至少一个印刷头上以反射由所述至少一个光学传感器输出的信号，并将所述信号从所述衬底的表面反射到所述光学传感器； 处理器，其以通信方式耦合于所述至少一个光学传感器，以基于所述沉积器与所述衬底之间的偏移距离并基于所述至少一个光学传感器与所述反射式光学装置之间的距离而测定出所述至少一个光学传感器与所述衬底的目标表面之间的距离；和 一或多个致动器，其耦合于所述至少一个印刷头，以相对于从外部腔室解耦的内部参考框架移动所述至少一个印刷头，并调整所述至少一个印刷头相对于所述衬底的位置，其中所述处理器可以通信方式耦合于所述一或多个致动器以移动所述至少一个印刷头， 其中所述至少一个传感器用安装件固定地耦合于所述内部参考框架，并且其中所述至少一个印刷头可经配置以独立于所述至少一个光学传感器在至少一个线性或旋转运动轴上移动。

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