深圳市三利谱光电科技股份有限公司闵如凤获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市三利谱光电科技股份有限公司申请的专利扩散膜及其制备方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115542441B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211192727.5，技术领域涉及：G02B5/02；该发明授权扩散膜及其制备方法与应用是由闵如凤;霍丙忠;魏以潮;唐文学;张建军设计研发完成，并于2022-09-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本扩散膜及其制备方法与应用在说明书摘要公布了：本申请涉及光学薄膜技术领域，尤其涉及一种扩散膜及其制备方法与应用，提供了一种扩散膜，该扩散膜包括基材以及设置在所述基材任一表面的扩散薄膜，其中，所述扩散薄膜由以下质量百分含量的组分制备而成：扩散粒子0.5％～10％，溶剂90～99.5％。得到的扩散膜具有高雾度，高清晰度，高透光率的特性；提供的配方简单，减少了其他组分的使用，成本低，有利于扩散粒子的分散，能够达到理想的光扩散效果，有利于广泛使用。
本发明授权扩散膜及其制备方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种扩散膜，其特征在于，所述扩散膜包括TAC基材以及设置在所述基材任一表面的扩散薄膜，其中，所述扩散薄膜由以下质量百分含量的组分制备而成：扩散粒子0.5％～10％，溶剂90～99.5％；所述溶剂为能够溶胀TAC基材的环己酮或其与助溶剂的混合溶剂，所述扩散粒子为PMMA粒子，且所述基材与扩散粒子的折射率之差≤0.2。
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