深圳盛方科技有限公司王宏伟获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳盛方科技有限公司申请的专利一种准分子激光器放电区域的量产化生产装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224082914U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520607992.8，技术领域涉及：H01S3/03；该实用新型一种准分子激光器放电区域的量产化生产装置是由王宏伟;罗其豪设计研发完成，并于2025-04-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种准分子激光器放电区域的量产化生产装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种准分子激光器放电区域的量产化生产装置，包括有固定座、挡板和挡条，挡板设置在固定座顶面上，固定座顶面上设有固定电极的固定座凹槽，挡板底面上设有挡板凹槽，挡板凹槽顶面上设有与挡板凹槽连通的挡板开孔，挡板凹槽两侧分别设有可横向运动的挡板活动板，挡板与挡板活动板之间设有调节挡板活动板位置的挡板活动板调节组件，挡条设置在挡板顶面上，挡条底面两侧分别设有沿长度方向设置且插入挡板开孔开口的挡条活动板，挡条与挡条活动板之间分别设有调节挡条活动板位置的挡条活动板调节组件，实现通过调节放电电极的表面形貌来改变电极的二次电子的发射的密度，进而实现人为控制准分子激光器光斑均匀性的自由调节。
本实用新型一种准分子激光器放电区域的量产化生产装置在权利要求书中公布了：1.一种准分子激光器放电区域的量产化生产装置，其特征在于：包括有固定座1、挡板2和挡条3，挡板2设置在固定座1顶面上，固定座1顶面上设有固定电极的固定座凹槽11，挡板2底面上设有挡板凹槽21，固定座凹槽11与挡板凹槽21形成容纳电极的容置腔，挡板凹槽21顶面上设有与挡板凹槽21连通的挡板开孔22，挡板凹槽21两侧分别设有可横向运动的挡板活动板4，挡板2与挡板活动板4之间设有调节挡板活动板4位置从而调节挡板开孔22开口大小的挡板活动板调节组件，挡条3设置在挡板2顶面上，挡条3底面两侧分别设有沿长度方向设置且插入挡板开孔22开口的挡条活动板5，挡条3与挡条活动板5之间分别设有调节挡条活动板5位置从而调节两侧挡条活动板5遮挡区域的挡条活动板调节组件。
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