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龙图腾网获悉浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司申请的专利一种高纯氮气环境下的硅片清洗烘干系统及操作工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117816685B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311753087.5，技术领域涉及：B08B11/02；该发明授权一种高纯氮气环境下的硅片清洗烘干系统及操作工艺是由徐新华设计研发完成，并于2023-12-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高纯氮气环境下的硅片清洗烘干系统及操作工艺在说明书摘要公布了：本发明涉及硅片清洗技术领域，且公开了一种高纯氮气环境下的硅片清洗烘干系统及操作工艺，包括烘干机、桌腿和传送装置，桌腿顶部固定连接有底板，底板一侧固定连接有左板,底板另一侧固定连接有右板,右板顶部固定连接有顶板,右板通过顶板与左板固定连接,左板一侧设置有上料装置，上料装置共计两个，通过对上料装置中的试剂槽内放入清洗试剂，清洗试剂从入水柱中流向第三管道，由第三管道流向第二管道，从第二管道中流向第一管道，最后到达衔接块内部，通过第五转动轴上方的小孔流入到喷头处进行喷洒，当圆盘移动至第二喷洒装置处，将对硅片进行二次清洗，清洗完成后移动到烘干机中进行烘干，从而达到多重清洗和避免药剂污染的效果。

本发明授权一种高纯氮气环境下的硅片清洗烘干系统及操作工艺在权利要求书中公布了：1.一种高纯氮气环境下的硅片清洗烘干系统，其特征在于：包括： 烘干机1； 桌腿10，其顶部与底板11固定连接，底板11一侧与左板12固定连接,底板11另一侧与右板13固定连接,右板13顶部与顶板14固定连接,且右板13通过顶板14与左板12固定连接； 传送装置16，其设置于底板11顶部； 其中左板12一侧设置有上料装置15，上料装置15共计两个，上料装置15包括有第五固定柱152,第五固定柱152一侧与试剂槽151固定连接，第五固定柱152另一侧与左板12固定连接，左板12另一侧设置有喷洒装置，且喷洒装置共计两个，左板12靠近右板13一侧中部与第一夹层板61固定连接,右板13靠近左板12一侧中部与第二夹层板固定连接，左板12靠近右板13一侧底部与第一转动轴17活动连接,第一转动轴17穿过传送装置16与第一转轮18固定连接，第一转动轴17穿过第一转轮18的一侧在右板13上活动连接，且第一转动轴17共计两个分别位于传送装置16两端，第一转轮18表面与皮带19活动连接,第一转轮18通过皮带19与第二转轮20进行传动连接； 所述喷洒装置包括有第一固定柱32，第一固定柱32一端与左板12固定连接,第一固定柱32表面活连接有第一夹板33，第一固定柱32穿过第一夹板33的一端固定连接有第二夹板34,第二夹板34一侧底部活动连接有衔接块35，衔接块35顶部一侧活动连接有第二连接柱38,第二连接柱38一侧固定连接在第三夹板37一端，第二连接柱38穿过衔接块35的另一侧活动连接在螺旋齿轮39上，第三夹板37通过第二连接柱38与螺旋齿轮39活动连接，第三夹板37另一端固定连接有第一连接柱36，第三夹板37通过第一连接柱36与第一夹板33活动连接，衔接块35底部活动连接有第五转动轴40,第五转动轴40一端固定连接有第三锥型齿44，第五转动轴40另一端固定连接有连接块42，第五转动轴40表面活动连接有固定板2，固定板2位于第三锥型齿44与衔接块35之间，固定板2顶部固定连接在顶板14底部，且第五转动轴40以固定板2为支撑点可进行上下摆动，连接块42表面固定连接有喷头43，第五转动轴40表面位于连接块42与衔接块35之间固定连接有螺纹柱41，且螺纹柱41与螺旋齿轮39可进行啮合，所述第三锥型齿44均与第一锥型齿26和第二锥型齿29啮合； 所述传送装置16顶部与底座57活动连接,底座57顶部固定连接有滑动块56,滑动块56一侧活动连接在第一夹层板61上，滑动块56另一侧活动连接在第二夹层板上，滑动块56顶部固定连接有圆盘45,圆盘45底部固定连接有第一锯齿板58,圆盘45顶部活动连接有中心柱46,中心柱46表面固定连接有空心齿轮47,中心柱46顶部固定连接有置物槽48。

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