盛美半导体设备(上海)股份有限公司邓新平获国家专利权
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龙图腾网获悉盛美半导体设备(上海)股份有限公司申请的专利供液装置及基板清洗方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117672897B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211007381.7，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权供液装置及基板清洗方法是由邓新平;魏雄飞;王晖;王坚;贾社娜;韩阳;王文军;张晓燕设计研发完成，并于2022-08-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本供液装置及基板清洗方法在说明书摘要公布了：本发明提出的供液装置及基板清洗方法。供液装置包括喷嘴，喷嘴的液体入口可采用切向进液方式，利用离心力促使气液分离；喷嘴的液体出口上方可以设置板状分离部或者筒状分离部，可以抑制气泡从液体出口排出；喷嘴的内部可以采用上、下腔室结构，上、下腔室均配置排气口，实现二次排气，上、下腔室还可以均配置液体入口，使处理液分两次混合，相比于处理液一次混合，气体生成量和生成速度均可降低；还包括控制部和液位传感器，控制部根据液位传感器获得的喷嘴内部液位检测信号调控喷嘴的排气管线上的调节阀开度，以使喷嘴内液位维持稳定，有利于减小喷嘴向基板供应液体时的流量波动，提高液处理的均匀性和可靠性。
本发明授权供液装置及基板清洗方法在权利要求书中公布了：1.一种供液装置，其特征在于，包括内部具有空腔的喷嘴，所述喷嘴包括： 液体入口，用于向空腔内导入液体； 液体出口，设置在空腔的下部，用于从空腔中导出液体； 排气口，设置在空腔的上部，用于排出空腔中的气体； 分离部，所述分离部呈筒状，位于液体出口之上并位于空腔内，所述分离部包括筒体，筒体的侧壁设置有多个斜孔，从筒体内侧向外侧观察，多个斜孔倾斜向上设置，筒体的底部开口并与液体出口连通。
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