株式会社博迈立铖延本要介获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社博迈立铖申请的专利闪烁体结构体及其制造方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116904183B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310907185.3,技术领域涉及:C09K11/02;该发明授权闪烁体结构体及其制造方法是由延本要介;寺泽慎祐;盐田谕设计研发完成,并于2021-07-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本闪烁体结构体及其制造方法在说明书摘要公布了:本发明所要解决的技术问题在于:降低制造成本并抑制发光输出降低,或者,降低制造成本并抑制余辉特性变差。其解决技术方案在于:闪烁体结构体包括多个单元和包覆多个单元的反射材料,多个单元中的各个单元含有树脂和荧光体,荧光体含有硫氧化钆,硫氧化钆含有铽和铈,多个单元中的各个单元的密度为4.4gcm3以上且低于5.0gcm3,多个单元中的各个单元的厚度为0.5mm以上1.8mm以下。或者,硫氧化钆含有镨和铈,多个单元中的各个单元的密度为4.4gcm3以上5.0gcm3以下,多个单元中的各个单元的厚度为0.3mm以上2.5mm以下。
本发明授权闪烁体结构体及其制造方法在权利要求书中公布了:1.一种闪烁体结构体,其特征在于: 包括多个单元和包覆所述多个单元的反射材料, 所述多个单元中的各个单元含有树脂和荧光体, 所述荧光体含有硫氧化钆,所述硫氧化钆含有铽和铈, 所述多个单元中的各个单元的密度为4.4gcm3以上且低于5.0gcm3, 所述多个单元中的各个单元的厚度为0.5mm以上1.8mm以下, 所述树脂为环氧树脂, 所述多个单元中的各个单元由具有加工面的长方体形状构成, 所述多个单元中的各个单元具有加工改质层, 所述加工改质层为由于受到机械加工工序导致的机械损伤,与实施机械加工之前相比,光的反射特性老化而变得容易吸收光的层。
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