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龙图腾网获悉信越化学工业株式会社申请的专利聚合物、抗蚀剂组成物及图案形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116515035B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310062007.5，技术领域涉及：C08F220/30；该发明授权聚合物、抗蚀剂组成物及图案形成方法是由福岛将大;提箸正义;小林知洋;大友雄太郎;长谷川幸士设计研发完成，并于2023-01-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本聚合物、抗蚀剂组成物及图案形成方法在说明书摘要公布了：本发明提供于高能射线下为高感度、高分辨率、高对比度且能形成图案宽的变异LWR及图案的面内均匀性CDU小的图案的聚合物、抗蚀剂组成物及图案形成方法。一种聚合物，是因曝光而产生酸，且因此酸的作用而改变对于显影液的溶解性的聚合物，其特征为含有下式A‑1表示的重复单元、及下式B‑1～B‑4中的任一者以上表示的重复单元。式中，M‑为非亲核性相对离子，A+为鎓阳离子，n1为1或2的整数，n2为0～2的整数，n3为0～5的整数，n4为0～2的整数，c为0～3的整数。

本发明授权聚合物、抗蚀剂组成物及图案形成方法在权利要求书中公布了：1.一种聚合物，是因曝光而产生酸，且因此酸的作用而改变对于显影液的溶解性的聚合物，其特征为含有下式A-1表示的重复单元、及下式B-2～B-3中的任一者以上表示的重复单元， 式中，RA为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基，ZA为单键、或亦可含有卤素原子的亚苯基或亚萘基，RB与RC各自独立地为亦可含有杂原子的直链状、分支状或环状的碳数1～10的烃基，RB与RC亦可互相键结而形成环结构，R1a各自独立地为卤素原子、氰基、碳数1～5的酰基、碳数1～5的烷氧基、碳数1～5的含氟烷基、或碳数1～5的含氟烷氧基中的任一者，R1b各自独立地为亦可含有杂原子的直链状、分支状或环状的碳数1～10的烃基，n1为1或2的整数，n2为0～2的整数，n3为0～5的整数，n4为0～2的整数， Z3为主链-C＝O-O-Z31-，Z31为亦可含有羟基、醚键、酯键或内酯环的碳数1～10的脂肪族亚烃基、或亚苯基或亚萘基， Z4为单键或亚甲基， L11为醚键、酯键、羰基、磺酸酯键、碳酸酯键或氨基甲酸酯键， Rf1及Rf2各自独立地为氟原子或碳数1～6的氟化烷基， Rf3及Rf4各自独立地为氢原子、氟原子或碳数1～6的氟化烷基， A+为鎓阳离子， c为0～3的整数； 该聚合物更含有下式a-1或a-2表示的重复单元， 式中，RA、ZA同前述，ZB为单键、主链-C＝O-O-、或亦可含有酯基、醚基、或羰基的碳数1～10的烷二基，Rb为亦可含有杂原子的直链状、分支状或环状的碳数1～20的烃基、卤素原子、亦可含有氟的烷氧基、氰基，p为0～4的整数，XA及XB各自独立地为不含有含氟芳香环的酸不稳定基团。

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