华中科技大学朱金龙获国家专利权
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龙图腾网获悉华中科技大学申请的专利一种基于光电化学刻蚀制造微纳结构的系统及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116382040B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310270320.8，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种基于光电化学刻蚀制造微纳结构的系统及方法是由朱金龙;刘心沁;彭攀设计研发完成，并于2023-03-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于光电化学刻蚀制造微纳结构的系统及方法在说明书摘要公布了：本发明属于微纳光学制造相关技术领域，其公开了一种基于光电化学刻蚀制造微纳结构的系统和方法，系统包括沿激光光路设置的激光器、汇聚透镜、旋转散射片、第一准直透镜、汇聚物镜、滤波针孔、第二准直透镜、偏振片、第一分束立方、空间光调制器及傅里叶透镜；汇聚透镜用于将激光器发出的平行激光聚焦照射在旋转散射片上，第一准直透镜将来自旋转散射片的散射激光平行出射；空间光调制器用于对接收到的光进行调制，经过傅里叶透镜后得到目标光场图案，进而制造微纳结构。系统通过旋转散射片从硬件上匀化激光，无需复杂的代码就可以使用空间光调制器生成高质量的任意目标光场图案，且相比LED光场调制具有更高的光束整形分辨率。
本发明授权一种基于光电化学刻蚀制造微纳结构的系统及方法在权利要求书中公布了：1.一种基于光电化学刻蚀制造微纳结构的系统，其特征在于： 所述系统包括沿激光光路设置的激光器、汇聚透镜、旋转散射片、第一准直透镜、汇聚物镜、滤波针孔、第二准直透镜、偏振片、第一分束立方、空间光调制器及傅里叶透镜； 所述汇聚透镜用于将激光器发出的平行激光聚焦照射在所述旋转散射片上，所述第一准直透镜将来自所述旋转散射片的散射激光平行出射，平行出射的激光依次经由所述汇聚物镜、所述滤波针孔及所述第二准直透镜进行滤波后到达所述偏振片，进而依次通过所述偏振片及所述第一分束立方后照射在所述空间光调制器上；所述空间光调制器用于对接收到的光进行调制以得到目标光场图案，进而制造微纳结构。
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