株式会社岛津制作所金子直树获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社岛津制作所申请的专利质谱分析装置的机差校正方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116157894B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180056975.4，技术领域涉及：H01J49/00；该发明授权质谱分析装置的机差校正方法是由金子直树;大久保达树;押川伦宪;小林裕子;田井中善树;铃木晃平;西风隆司设计研发完成，并于2021-01-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本质谱分析装置的机差校正方法在说明书摘要公布了：一种质谱分析中的信号强度比的机差校正方法，包括以下工序：通过质谱分析装置测定包含2个以上的校准物质的校准品，来获得所述校准物质各自的峰信号；求出所述2个以上的校准物质中的一个校准物质的峰信号的强度相对于另一个校准物质的峰信号的强度的峰信号强度比；根据所述峰信号强度比求出校正式；通过所述质谱分析装置测定包含2个以上的分析对象物质的试样，来获得所述分析对象物质各自的峰信号；求出所述2个以上的分析对象物质中的一个分析对象物质的峰信号的强度相对于另一个分析对象物质的峰信号的强度的峰信号强度比；以及使用所述校正式对所述分析对象物质的所述峰信号强度比进行校正。
本发明授权质谱分析装置的机差校正方法在权利要求书中公布了：1.一种质谱分析中的信号强度比的机差校正方法，包括以下工序： 通过质谱分析装置测定包含2个以上的校准物质的校准品，来获得所述校准物质各自的峰信号； 求出所述2个以上的校准物质中的一个校准物质的峰信号的强度相对于另一个校准物质的峰信号的强度的峰信号强度比； 根据所述峰信号强度比求出校正式； 通过所述质谱分析装置测定包含2个以上的分析对象物质的试样，来获得所述分析对象物质各自的峰信号； 求出所述2个以上的分析对象物质中的一个分析对象物质的峰信号的强度相对于另一个分析对象物质的峰信号的强度的峰信号强度比；以及 使用所述校正式对所述分析对象物质的所述峰信号强度比进行校正， 其中，所述校准物质包含进行了稳定同位素标记的物质和未进行稳定同位素标记的物质。
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