无锡微视传感科技有限公司许静获国家专利权
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龙图腾网获悉无锡微视传感科技有限公司申请的专利一种大角度MEMS双轴微镜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115728934B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211455439.4，技术领域涉及：G02B26/08；该发明授权一种大角度MEMS双轴微镜及其制备方法是由许静;孙其梁;吴家文;程进;徐乃涛设计研发完成，并于2022-11-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种大角度MEMS双轴微镜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种大角度MEMS双轴微镜，包括键合的第一SOI片和第二SOI片，所述第二SOI片上设置有镜片，所述第二SOI片下方设置有第一梳齿组，所述镜片两侧设置有第二梳齿组。与现有技术不同的是，本方案仅需要两片SOI片的键合即可制备，其质量可以得到保证，同时其成本得到了有效控制。
本发明授权一种大角度MEMS双轴微镜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种大角度MEMS双轴微镜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： S11、用第一SOI片完成下梳齿以及隔离槽的制备，SOI片包含衬底层，介质层BOX和器件层； S12、用第二SOI片完成镜面下梳齿对的上梳齿制备，转轴减薄以及镜面旁梳齿对的上梳齿的下半部分的制备；包括： S121、第二SOI片表面第三层光刻，上梳齿、微镜边界和转轴区域方槽光刻胶图形化； S122、刻蚀Si，定义上梳齿图形，转轴区域刻蚀形貌为方槽； S13、将第一SOI片和第二SOI片键合，去除第二片SOI片的衬底和BOX层，完成镜面的制备，转轴的制备，镜面旁梳齿对上梳齿上半部的制备，并定义出微镜的整体边界，包括： S131、第一SOI片和第二SOI片器件层相对，硅硅键合； S132、去除第二SOI片的底硅和BOX层； S133、淀积镜面金属； S134、第四层光刻，镜面和pad区域光刻胶图形化； S135、刻蚀金属，定义出镜面和pad图形； S136、第五层光刻，上梳齿、转轴和微镜边界光刻胶图形化； S137、刻蚀Si，定义转轴、微镜边界以及镜面旁梳齿对的上梳齿。
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