上海华虹宏力半导体制造有限公司王雷获国家专利权
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龙图腾网获悉上海华虹宏力半导体制造有限公司申请的专利一种薄膜工艺监控方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115588625B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211331993.1,技术领域涉及:H10P72/00;该发明授权一种薄膜工艺监控方法是由王雷设计研发完成,并于2022-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种薄膜工艺监控方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种薄膜工艺监控方法,属于半导体工艺制造领域。该方法中,对定期生长需要监控的薄膜,测量不同OVLmark的差异,和目标值与变动范围比对,判断是否符合要求,从而解决特殊性质和成分复杂的薄膜存在监控能力不足以及物理化学特性测量困难的问题。
本发明授权一种薄膜工艺监控方法在权利要求书中公布了:1.一种薄膜工艺监控方法,其特征在于,所述方法包括: 对待测硅片进行薄膜工艺监控操作,得到不同衬底的OVLmark差值,所述待测硅片对应有至少两组OVLmark衬底; 对得到的OVLmark差值和目标值进行差值比较,确定出差值的可变动范围,所述目标值由样本硅片经过所述薄膜工艺监控操作得到; 根据所述目标值和所述可变动范围,对定期生长需监控的第二薄膜进行OVLmark差值的监控。
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