东京毅力科创株式会社米尔科·武科维奇获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利用于流体分配和覆盖控制的系统和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115552579B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180031784.2，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权用于流体分配和覆盖控制的系统和方法是由米尔科·武科维奇;丹尼尔·富尔福德;安东·德维利耶设计研发完成，并于2021-03-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于流体分配和覆盖控制的系统和方法在说明书摘要公布了：可以使用光来监测在衬底上涂覆液体。通过将光引导至衬底上的一个点，当液体经过该点时，一些光会被反射，而一些光会被散射。监测这种行为可以指示衬底是否已被液体成功涂覆，并且识别缺陷。此外，可以监测涂覆时间以进行过程调整。
本发明授权用于流体分配和覆盖控制的系统和方法在权利要求书中公布了：1.一种用于在衬底上分配液体的系统，该系统包括： 衬底固持器，该衬底固持器被配置为固持衬底并使该衬底绕轴线旋转； 分配单元，该分配单元被配置为当该衬底正在该衬底固持器上旋转时，在该衬底的工作表面上分配液体； 激光器，该激光器相对于所述衬底固持器被固定并且被配置为当被所述衬底固持器固持时将激光束恒定地引导至与该衬底的工作表面的边缘相对应的位置处； 第一检测器，该第一检测器被定位成捕获来自被引导至该衬底的工作表面的边缘处的激光束的散射光； 处理器，该处理器被配置为监测来自被引导至该衬底的工作表面的边缘处的激光束的散射光，以识别散射光的图案，该图案指示该液体已到达该衬底的边缘， 其中，该处理器进一步被配置为：识别该液体的实际涂覆时间，该实际涂覆时间从开始将该液体给定分配到所述工作表面上开始直到该液体到达所述工作表面的边缘；将该液体的实际涂覆时间与该液体的预期涂覆时间进行比较；以及响应于所述预期涂覆时间与所述实际涂覆时间之间的差异大于预定阈值，指示错误或调整系统操作。
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