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龙图腾网获悉深圳市德明利光电有限公司申请的专利激光器主动层外延结构及其生长方法和激光器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115528541B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211145561.1，技术领域涉及：H01S5/30；该发明授权激光器主动层外延结构及其生长方法和激光器是由潘德烈;李承远;李佳勋设计研发完成，并于2022-09-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本激光器主动层外延结构及其生长方法和激光器在说明书摘要公布了：本发明提供了一种激光器主动层外延结构及其生长方法和激光器，应用于垂直腔面发射激光器，外延结构包括：能障层、井层和限制层；其中，第一限制层和第二限制层位于主动层的两侧；第一限制层与第一能障层相连；第二限制层与第二能障层相连；第一能障层与第二能障层之间由下至上为第一井层与第三能障层构成的周期性结构和第二井层组成；周期性结构包括至少一个周期单元，且每个周期单元包括交替叠加的第一井层和第三能障层；能障层包括能障垂直层和能障渐变层。通过将能障层设置为能障垂直层和渐变结构的能障渐变层，缩小能障层厚度，以使井层容积相对增加，从而提高井层中的载子复合机率，进而降低电子泄露的可能性，以提升激光器的内量子效率。

本发明授权激光器主动层外延结构及其生长方法和激光器在权利要求书中公布了：1.一种激光器主动层的外延结构，其特征在于，应用于垂直腔面发射激光器，所述外延结构包括：能障层、井层和限制层；其中，第一限制层和第二限制层位于所述主动层的两侧；所述第一限制层与第一能障层相连；所述第二限制层与第二能障层相连；所述第一能障层与所述第二能障层之间由下至上为第一井层与第三能障层构成的周期性结构和第二井层组成；所述周期性结构包括至少一个周期单元，且每个周期单元包括交替叠加的所述第一井层和所述第三能障层；所述能障层包括能障垂直层和能障渐变层； 所述限制层，用于阻挡过多的载子连续越过所述井层和所述能障层；其中，所述载子包括电子和电洞； 所述能障垂直层，用于阻挡所述载子直接由一个井层直接进入下一个井层； 所述能障渐变层，用于缩小所述能障层厚度，以使所述井层的容积相对增加，以容纳更多所述载子； 所述井层，用于使所述电子和所述电洞汇合，以使所述电子和所述电洞复合成为光子； 所述第一能障层包括自下至上相连的第一能障垂直层和第一能障渐变层；所述第二能障层包括自下至上相连的第二能障渐变层、第二能障垂直层；所述第三能障层包括自下至上相连的第三能障渐变层、第三能障垂直层和第四能障渐变层； 所述能障渐变层采用的材料为线性渐变的AlGaAs，其中，所述线性渐变的AlGaAs中Al原子占比为0~20%，Ga原子占比为1~80%。

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