Document
拖动滑块完成拼图
个人中心

预订订单
商城订单
发布专利 发布成果 人才入驻 发布商标 发布需求

请提出您的宝贵建议,有机会获取IP积分或其他奖励

投诉建议

在线咨询

联系我们

龙图腾公众号
专利交易 商标交易 积分商城 国际服务 IP管家助手 科技果 科技人才 会员权益 需求市场 关于龙图腾 更多
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索
当前位置 : 首页 > 专利喜报 > 东京毅力科创株式会社新藤尚树获国家专利权

东京毅力科创株式会社新藤尚树获国家专利权

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利蚀刻方法和蚀刻装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115410916B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210547963.8,技术领域涉及:H10P50/26;该发明授权蚀刻方法和蚀刻装置是由新藤尚树;杨元;铃木春菜设计研发完成,并于2022-05-18向国家知识产权局提交的专利申请。

蚀刻方法和蚀刻装置在说明书摘要公布了:本发明提供一种蚀刻方法和蚀刻装置,能够在存在氮化钛、以及钼或钨的基板上抑制钼或钨中的孔蚀的产生并蚀刻氮化钛膜。蚀刻方法包括以下步骤:准备存在氮化钛、以及钼或钨的基板;以及向基板供给含有ClF3气体和N2气体的处理气体,来蚀刻氮化钛。在蚀刻中,使处理气体的ClF3气体与N2气体的分压比成为使Mo或W的晶粒间界氮化到抑制孔蚀的产生的程度的值。

本发明授权蚀刻方法和蚀刻装置在权利要求书中公布了:1.一种蚀刻方法,包括以下步骤: 准备存在氮化钛、以及钼或钨的基板;以及 向所述基板供给含有ClF3气体和N2气体的处理气体,来蚀刻所述氮化钛, 其中,在所述蚀刻中,将所述处理气体的ClF3气体与N2气体的分压比即ClF3N2设为0.026以下。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人东京毅力科创株式会社,其通讯地址为:日本东京都;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。