细美事有限公司朴美昭获国家专利权
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龙图腾网获悉细美事有限公司申请的专利用于处理基板的装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115360117B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210531060.0,技术领域涉及:H10P72/00;该发明授权用于处理基板的装置是由朴美昭;李暎熏;崔永燮;郑镇优设计研发完成,并于2022-05-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于处理基板的装置在说明书摘要公布了:本发明构思提供了一种基板处理装置。该基板处理装置包括:腔室,在该腔室中具有内部空间;流体供应单元,其具有被配置为将处理流体供应到内部空间的供应管线和被配置为将处理流体供应到供应管线的流体供应源;第一排放单元,其被配置为对内部空间进行排放;第二排放单元,其被配置为对供应管线进行排放;以及控制器,其被配置为控制流体供应单元、第一排放单元和第二排放单元,并且其中控制器控制流体供应单元和第二排放单元,使得在待机步骤的至少一部分期间,供应管线的压力被维持在处理流体的临界压力或更高压力,该待机步骤用于在将基板引入内部空间之前将基板保持在内部空间之外。
本发明授权用于处理基板的装置在权利要求书中公布了:1.一种基板处理装置,其包括: 腔室,在所述腔室中具有内部空间; 流体供应单元,其具有被配置为将处理流体供应到所述内部空间的供应管线和被配置为将所述处理流体供应到所述供应管线的流体供应源; 第一排放单元,其被配置为对所述内部空间进行排放; 第二排放单元,其被配置为对所述供应管线进行排放;以及 控制器,其被配置为控制所述流体供应单元、所述第一排放单元和所述第二排放单元,并且 其中,所述控制器控制所述流体供应单元和所述第二排放单元,使得在待机步骤的至少一部分期间,所述供应管线的压力被维持在所述处理流体的临界压力或更高压力,所述待机步骤用于在将基板引入所述内部空间之前将基板保持在所述内部空间之外, 其中,所述控制器控制所述流体供应单元和所述第一排放单元以依次执行用于处理所述基板的第一处理步骤、所述待机步骤和用于处理所述基板的第二处理步骤, 其中,从所述第一处理步骤中的减压步骤到在所述待机步骤结束之前的预定时间期间,所述控制器控制所述流体供应单元和所述第二排放单元,使得所述供应管线的压力被维持在所述处理流体的临界压力或更高压力, 其中,所述控制器控制所述第二排放单元,使得在所述第二处理步骤开始之前的预定时间期间,通过对所述供应管线进行排放,所述供应管线的压力变为正常压力。
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