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龙图腾网获悉中国科学院光电技术研究所申请的专利一种用于大视场地表层自适应光学系统校正质量评价方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115205158B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210930440.1，技术领域涉及：G06T5/80；该发明授权一种用于大视场地表层自适应光学系统校正质量评价方法是由杨颖;张兰强;饶长辉设计研发完成，并于2022-08-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于大视场地表层自适应光学系统校正质量评价方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种用于大视场地表层自适应光学系统校正质量评价方法。该方法包括：提出一种校正质量评价因子，以及基于该评价因子对地表层自适应光学系统性能的评价准则。该评价过程为：结合科学需求，确定贡献权重因子；利用校正质量评价因子围绕系统参数对大视场地表层自适应光学系统的校正质量进行评价；最优系统配置对应最小的校正质量评价因子，其优化参数容限范围在数值上不超过1.01倍；在系统性能相似校正质量评价因子数值差距小于1％的情况下，结构简单的系统配置应被优先选择。利用本发明可以灵活有效地指导大视场地表层自适应光学系统设计与优化，从而为太阳磁场研究提供更可靠的图像。

本发明授权一种用于大视场地表层自适应光学系统校正质量评价方法在权利要求书中公布了：1.一种用于大视场地表层自适应光学系统校正质量评价方法，其特征在于，包括一种校正质量评价因子，以及基于该评价因子对地表层自适应光学系统性能的评价准则，该评价方法步骤包括： 步骤一：根据大视场内成像分辨率及其均匀度需求，给定校正质量评价因子中所需权重； 步骤二：利用校正质量评价因子围绕系统参数对地表层自适应光学系统性能进行评价； 步骤三：最优系统配置对应校正质量评价因子最小数值，其优化参数容限范围在数值上不超过1.01倍； 步骤四：在系统性能相似即校正质量评价因子数值差距小于1%时，结构简单的系统配置应被优先选择； 其中，所述校正质量评价因子的定义原理如下： a基于大视场内残余点扩散函数的半高宽获取图像清晰因子，E： 1 其中，表示了视场位置为处的半高宽FWHM，为视场面积；E描绘了大视场内图像质量的平均补偿效果，其数值越小，表示大视场内的平均校正效果更佳； b基于大视场内残余点扩散函数的半高宽获取点扩散函数空间稳定度因子，V： 2 V描述了大视场内点扩散函数在不同位置的空间波动特性，其数值越小，表示大视场内校正质量的均匀度越高；由Kolmogorov湍流理论可知，在一定条件下，大气湍流是均匀各向同性的；假设目标视场处于等晕区域内，故在距视场中心相同距离的各个方向上，其校正质量也应满足一致性，即V≈0；然而通常情况下，科学需求视场大于该等晕区域，且观测站址上空的湍流环境并不能满足该条件；通过限制V的大小以获取较高的成像一致性； c获取校正质量评价因子： 3 其中，与取决于成像清晰度和其空间稳定性之间的科学需求。

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