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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基片处理装置和基片处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114433397B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111271671.8，技术领域涉及：B05B15/40；该发明授权基片处理装置和基片处理方法是由矢野英嗣;一野克宪设计研发完成，并于2021-10-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本基片处理装置和基片处理方法在说明书摘要公布了：本发明提供有利于减少向基片排出的处理液中的异物的技术。基片处理装置包括：具有向基片排出处理液的喷嘴的排出部30；将处理液送至排出部的送液部60；和将用于送至排出部30的处理液向送液部60供给的作为供给源的液源51，送液部60具有：供处理液流动的管路；设置在管路上的彼此不同的位置的、对设置在处理液中会含有的多个种类的异物的捕集特性彼此不同的多个过滤器。

本发明授权基片处理装置和基片处理方法在权利要求书中公布了：1.一种基片处理装置，其特征在于，包括： 具有向基片排出处理液的喷嘴的排出部； 将所述处理液向所述排出部送出的送液部；和 将用于向所述排出部送出的所述处理液向所述送液部供给的供给源； 控制所述送液部的控制部； 对所述供给源与所述送液部之间进行开闭的第1阀；和 对所述送液部与所述排出部之间进行开闭的第2阀； 所述送液部具有： 供所述处理液流动的管路；和 多个过滤器，其设置在所述管路上的彼此不同的位置，对设想的在所述处理液中会含有的多个种类的异物的捕集特性彼此不同， 所述管路包括：将所述供给源和所述喷嘴连接的主管路；和以将设置于所述主管路的2个分支点连接的方式形成的旁通管路， 所述送液部还具有： 设置于所述旁通管路的送液用泵； 对所述旁通管路进行开闭的1个以上的阀；和 在所述旁通管路中的所述送液用泵的下游侧检测所述处理液中的异物的异物检测部， 所述多个过滤器中，第1过滤器在所述主管路中的所述2个分支点之间，设置在比不同于所述第1过滤器的过滤器靠下游侧的位置，所述第1过滤器对于进行了对所述基片的后级的液体处理后会产生的缺陷的发生频率高的种类的异物的捕集性能最高， 不同于所述第1过滤器的过滤器中的至少1个过滤器，设置于所述旁通管路， 所述控制部根据所述异物检测部的检测结果，对所述第1阀、第2阀、对所述旁通管路进行开闭的1个以上的阀和所述送液用泵进行控制，以变更所述主管路和所述旁通管路中的所述处理液的流动。

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