三星显示有限公司朴相河获国家专利权
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龙图腾网获悉三星显示有限公司申请的专利沉积用掩模及包括该沉积用掩模的掩模组件获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224062867U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520354120.5，技术领域涉及：C23C14/04；该实用新型沉积用掩模及包括该沉积用掩模的掩模组件是由朴相河设计研发完成，并于2025-03-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本沉积用掩模及包括该沉积用掩模的掩模组件在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种沉积用掩模及包括该沉积用掩模的掩模组件。沉积用掩模包括：掩模单元区域，具有多个像素开口部；以及边缘区域，沿第一方向分别布置于所述掩模单元区域的两侧。所述像素开口部中的每一个沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸。所述像素开口部中的每一个在所述第二方向上的两侧边缘部位具有沿所述第一方向的第一宽度，并且所述像素开口部中的每一个在所述第二方向上的中央部位具有小于所述第一宽度的沿所述第一方向的第二宽度。
本实用新型沉积用掩模及包括该沉积用掩模的掩模组件在权利要求书中公布了：1.一种沉积用掩模，其特征在于，包括： 掩模单元区域，具有多个像素开口部；以及 边缘区域，沿第一方向分别布置于掩模单元区域的两侧， 其中，所述像素开口部中的每一个沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸，所述像素开口部中的每一个在所述第二方向上的两侧边缘部位具有沿所述第一方向的第一宽度，并且所述像素开口部中的每一个在所述第二方向上的中央部位具有小于所述第一宽度的沿所述第一方向的第二宽度。
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