苏州弘德光电材料科技有限公司裴建军获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州弘德光电材料科技有限公司申请的专利具有微结构的保护膜获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN224062710U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520478686.9,技术领域涉及:C09J7/38;该实用新型具有微结构的保护膜是由裴建军;丁清华设计研发完成,并于2025-03-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有微结构的保护膜在说明书摘要公布了:本申请涉及一种具有微结构的保护膜,该保护膜由基材层和压敏胶层组成,表面具有独特的棱镜微结构。该棱镜微结构由多个紧密排列且排列方向一致的棱镜体组成,棱镜微结构的存在为空气提供了更多的排出通道,有效避免了在保护膜贴附时被保护表面与保护膜之间气泡的产生,在撕离保护膜时减少粘附力和残胶的产生。通过合理控制棱镜体的底宽和高度,实现了压敏胶层粘附力和脱离性能的平衡,使得在具有足够粘附力的同时,也能在撕离时保持良好的脱离性能。本申请还提供了一种制作具有微结构的保护膜的方法,利用转印基底中对应棱镜微结构的凹槽,能够将棱镜微结构的形状和尺寸精确复制到压敏胶层上,满足不同应用场景对微结构精度的要求。
本实用新型具有微结构的保护膜在权利要求书中公布了:1.一种具有微结构的保护膜,其特征在于,包括基材层、压敏胶层,所述压敏胶层相对所述基材层的一侧包括棱镜微结构; 所述棱镜微结构包括多个排列在一起的棱镜体,所述棱镜体的排列方向相同,所述棱镜体的截面形状为梯形、等腰三角形或圆弧形; 其中,所述棱镜体的底宽在5-100μm范围内,所述棱镜体的高度在所述棱镜体底宽的0.3-1倍的范围内。
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