浙江斯凯沃微电子有限公司何波获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江斯凯沃微电子有限公司申请的专利一种抛光液残留清洗设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224058178U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520598663.1，技术领域涉及：B08B3/02；该实用新型一种抛光液残留清洗设备是由何波;杨阳;凌观爽设计研发完成，并于2025-04-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种抛光液残留清洗设备在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种抛光液残留清洗设备，涉及清洗设备领域，该抛光液残留清洗设备，对集成电路板进行清洗，包括箱体，所述箱体顶部开设有淋浴槽，箱体连接有壳罩，壳罩罩住淋浴槽，所述淋浴槽内壁底部枢接有电机驱动的转盘，转盘顶部两侧对称布置有升降杆，两个升降杆之间连接有安置块。该抛光液残留清洗设备，在箱体上设立壳罩，避免冲洗过程中水花溅出，箱体上开设有淋浴槽，淋浴槽内设有安置块，安置块开设有通槽一、通槽二，将集成电路板安置在通槽一内，通过带动安置块旋转，达到冲洗后甩干的效果。利用通槽一将集成电路板分开放置，避免堆积清洗导致清洗不干净，提高清洗效率。通过风箱、中转仓的配合，提高甩干效果。
本实用新型一种抛光液残留清洗设备在权利要求书中公布了：1.一种抛光液残留清洗设备，对集成电路板进行清洗，其特征在于：包括箱体1，所述箱体1顶部开设有淋浴槽11，箱体1连接有壳罩4，壳罩4罩住淋浴槽11，所述淋浴槽11内壁底部枢接有电机驱动的转盘2，转盘2顶部两侧对称布置有升降杆21，两个升降杆21之间连接有安置块9； 所述安置块9呈立方体，安置块9顶部开设有上下贯通的通槽一91，安置块9正面开设有前后贯通的通槽二92，集成电路板放置与通槽一91内，所述安置块9上下两端均贯穿有螺杆93，螺杆93端部螺纹连接有螺母94； 所述壳罩4内设有花洒5，花洒5位于安置块9正上方，花洒5连接有接引管51，箱体1左侧连接有水箱7，水箱7顶部连接有水管71，壳罩4顶部连接有风箱6，风箱6连接有风管61； 所述壳罩4内设有中转仓8，中转仓8左侧与水管71连接，中转仓8右侧与接引管51连接，中转仓8顶部与风管61连接。
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