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龙图腾网获悉大连理工大学申请的专利一种表面增强拉曼散射基底、制备方法及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121612863B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610149676.X，技术领域涉及：G01N21/65；该发明授权一种表面增强拉曼散射基底、制备方法及其应用是由刘宽;杨振奥;曹暾;廉盟;贾婧媛;苏莹设计研发完成，并于2026-02-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种表面增强拉曼散射基底、制备方法及其应用在说明书摘要公布了：一种表面增强拉曼散射基底、制备方法及其应用，属于拉曼光谱检测技术领域，其从下至上依次包括衬底层、分布式布拉格反射镜、硫族相变材料功能层和纳米级金属结构层。分布式布拉格反射镜由折射率不同的介质材料组成周期结构堆叠而成。分布式布拉格反射镜与纳米级金属结构层耦合激发塔姆态，硫族相变材料功能层在外部光激励下可实现非晶态与晶态的可逆调控，改变塔姆态共振波长以调控SERS增强效果。本发明通过塔姆态与局域表面等离子共振的双重增强实现高灵敏度检测，兼具非易失性可重构、高重现性和设计灵活的特点，操作便捷且性能稳定，适用于化学生物传感、实验室芯片系统及光学加密等领域。

本发明授权一种表面增强拉曼散射基底、制备方法及其应用在权利要求书中公布了：1.一种表面增强拉曼散射基底，其特征在于，所述表面增强拉曼散射基底的结构从下至上依次包括：衬底层、分布式布拉格反射镜、硫族相变材料功能层和纳米级金属结构层； 所述分布式布拉格反射镜由折射率不同的介质材料组成周期结构堆叠而成，一个周期结构包括一个高折射率介质材层、一个低折射率介质材料层，其中高折射率介质材料层位于下方；所述硫族相变材料功能层位于分布式布拉格反射镜与纳米级金属结构层之间，处于塔姆态的电场增强区域内； 所述硫族相变材料功能层的厚度为5nm至200nm之间，所述硫族相变材料功能层的材料选自GeSbTe、GeTe、、GaSb、、、、AgInSbTe、InSb、InSbTe、InSe或SbTe硫族相变材料中的一种； 所述纳米级金属结构层的贵金属薄膜厚度为2nm至50nm之间，为实现透光，纳米级金属结构层的沉积厚度控制在贵金属的最大透光厚度以下；所述纳米级金属结构层既作为激发塔姆态的必要组成部分，也作为承载待测分子的表面增强拉曼散射活性表面； 所述硫族相变材料功能层的硫族相变材料能够在外部光激励下，实现非晶态与晶态之间的可逆调控，可逆调控过程中两种相态下硫族相变材料的介电常数存在差异，能够引起塔姆态的共振波长的变化，促使其波长与拉曼光谱激发激光的波长达到近似一致的状态，实现对表面增强拉曼散射增强效果的调控； 所述表面增强拉曼散射基底性能的可重构是非易失的，即撤去外部光激励后，硫族相变材料的晶格状态能够保持不变，表面增强拉曼散射基底的性能也不发生变化，若想改变表面增强拉曼散射基底性能，需再次外加光激励以改变其状态。

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