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龙图腾网获悉南京大学;合肥国家实验室申请的专利一种极紫外窄带高透滤光片及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121559659B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610089820.5，技术领域涉及：G02B5/20；该发明授权一种极紫外窄带高透滤光片及其制备方法和应用是由任芳芳;金迅;付杰;陆海;徐尉宗;周东;周峰;张荣设计研发完成，并于2026-01-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种极紫外窄带高透滤光片及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种极紫外窄带高透滤光片及其制备方法和应用。所述极紫外窄带高透滤光片包括从下至上依次设置的第一钌薄膜、硅薄膜和第二钌薄膜；对于12.3~14.5nm波长处，所述极紫外窄带高透滤光片的透射率≥32%。相较于传统多层膜滤光片，本发明具有结构简单、工艺简便以及便于在探测器表面进行高集成的优点，在极紫外光学领域具有广阔的应用前景。

本发明授权一种极紫外窄带高透滤光片及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种极紫外窄带高透滤光片，其特征在于：所述极紫外窄带高透滤光片包括从下至上依次设置的第一钌薄膜1，作为接触层，兼具电学接触与光谱调节功能，利用其吸收特性抑制长波透射，构建窄带光谱的长波截止边； 硅薄膜2，作为核心滤波层，利用其透射特性及消光系数突变，形成窄带光谱的短波吸收边； 第二钌薄膜3，作为保护层，为硅薄膜2提供物理与化学屏障，同时与第一钌薄膜1共同作用，利用其吸收特性形成窄带光谱的长波截止边； 由两层钌薄膜与中间硅薄膜形成三明治结构，通过硅薄膜确定的短波吸收边与钌薄膜确定的长波截止边相互叠加，从而共同围成窄带透射光谱； 对于12.3~14.5nm波长处，所述极紫外窄带高透滤光片的透射率≥32%； 在12.3nm波长处，所述硅薄膜2的透射率不高于10%，在13.5nm波长处，硅薄膜2的透射率不低于75%，所述硅薄膜2的厚度dSi满足以下范围： 其中，和为波长，T为透射率，κ为消光系数； 在13.5nm波长处，所述第一钌薄膜1和第二钌薄膜3的总透射率不低于40%，在14.5nm波长处，所述第一钌薄膜1和第二钌薄膜3的总透射率不高于25%，所述第一钌薄膜1和第二钌薄膜3的总厚度dRu满足以下范围： 其中，和为波长，T为透射率，κ为消光系数。

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