苏州利来工业智造股份有限公司洪帅获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州利来工业智造股份有限公司申请的专利一种基于CVD的铝带表面强化工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121496328B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610019288.X，技术领域涉及：C23C14/06；该发明授权一种基于CVD的铝带表面强化工艺是由洪帅;许振宇;孙政设计研发完成，并于2026-01-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于CVD的铝带表面强化工艺在说明书摘要公布了：本发明属于铝带表面处理技术领域，具体涉及一种基于CVD的铝带表面强化工艺。本发明旨在解决现有的铝带表面强化方法难以提高铝带在高盐雾环境下耐久性的问题。本发明首先对铝带进行矫直活化处理，处理完成后，将铝带送入沉积室进行磁控溅射沉积，具体包括金属注入阶段、氮化支撑阶段和复合沉积阶段。随后，将铝带送入沉积车间进行脉冲CVD工艺，完成后进行功能化改性，完成表面强化工艺的铝带表面依次存在Ti‑Si扩散层、TiSiN扩散层、Ti‑Si‑C‑N复合层、多层耐腐蚀层以及含氟层。本发明提供的表面强化工艺能够有效保障铝带在高盐雾环境下的使用耐久性，而且具有优异的表面硬度和结构稳定性。
本发明授权一种基于CVD的铝带表面强化工艺在权利要求书中公布了：1.一种基于CVD的铝带表面强化工艺，其特征在于：所述表面强化工艺具体为： 对铝带进行矫直活化处理，处理完成后，将所述铝带送入沉积室； 在所述沉积室内，对所述铝带进行磁控溅射沉积； 所述磁控溅射沉积过程依次包括：金属注入阶段、氮化支撑阶段和复合沉积阶段； 将经过所述磁控溅射沉积的所述铝带送入沉积车间，进行脉冲CVD工艺； 在所述沉积车间内，所述铝带完成所述脉冲CVD工艺后，进行功能化改性； 完成所述铝带表面强化工艺后，所述铝带表面依次存在Ti-Si扩散层、TiSiN扩散层、Ti-Si-C-N复合层、多层耐腐蚀层以及含氟层； 所述金属注入阶段使用TiSi合金靶，处理得到所述Ti-Si扩散层；所述氮化支撑阶段在2min内，线性提高氮气的流量至300sccm，处理得到所述TiSiN扩散层；所述复合沉积阶段使用氩气、氮气和乙炔的复合气氛，处理得到所述Ti-Si-C-N复合层。
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