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龙图腾网获悉深圳市原速光电科技有限公司申请的专利原子层沉积设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121472820B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610008542.6，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权原子层沉积设备是由请求不公布姓名;请求不公布姓名;请求不公布姓名;请求不公布姓名设计研发完成，并于2026-01-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本原子层沉积设备在说明书摘要公布了：本发明公开了一种原子层沉积设备，包括反应室、反应模块与加热模块，反应室的两端分别设有进口与出口，加热模块位于反应室内，并设置于反应模块朝向进口的一端以及反应模块朝向出口的一端。加热模块能够释放热量，反应室靠近进口与出口的区域被加热模块加热，以克服出口区域因散热快而温度较低的缺陷，弥补出口区域的热量损失，加热模块所释放的热量能够传递至进入反应室的基材，使基材行进过程中各区域的温度保持一致，提升基材的膜厚的均匀性及成膜质量；并且，在加热模块对出口区域的加热作用下，出口区域的温度升高，跟随基材用移动出口区域的工艺气体不易在出口处冷凝，从而降低了工艺气体形成粉末颗粒污染基材的概率。

本发明授权原子层沉积设备在权利要求书中公布了：1.原子层沉积设备，用于在基材表面形成薄膜，其特征在于，包括： 反应室，所述反应室的两端分别设有进口与出口； 反应模块，位于所述反应室内，所述反应模块限定出供基材通过的反应空间，所述反应空间的两端分别连通所述进口与所述出口，所述反应模块能够向所述基材释放工艺气体； 加热模块，位于所述反应室内，并设置于所述反应模块朝向所述进口的一端以及所述反应模块朝向所述出口的一端； 所述反应室包括盖体，所述反应模块包括喷淋板，所述喷淋板用于向所述反应空间释放反应气体，所述盖体位于所述喷淋板背向所述反应空间的一侧，所述盖体与所述喷淋板之间设有排气腔；所述反应模块包括排气部，所述排气部相对于所述喷淋板朝向所述盖体凸出，所述排气部具有连通所述反应空间与所述排气腔的排气通道，所述排气通道通过排气口连通所述排气腔； 所述排气口设置于所述排气部朝向所述盖体的一端，所述反应模块还包括挡罩，所述挡罩位于所述喷淋板朝向所述盖体的一侧，并遮挡所述排气通道连通所述排气腔的排气口；所述挡罩朝向所述盖体凹陷，并形成凹腔，部分所述排气部插入至所述凹腔内。

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