华芯程(杭州)科技有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网获悉华芯程(杭州)科技有限公司申请的专利凸多边形掩膜版的曼哈顿化掩膜生成方法、装置、介质、程序产品及终端获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121411065B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511985318.4，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权凸多边形掩膜版的曼哈顿化掩膜生成方法、装置、介质、程序产品及终端是由请求不公布姓名设计研发完成，并于2025-12-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本凸多边形掩膜版的曼哈顿化掩膜生成方法、装置、介质、程序产品及终端在说明书摘要公布了：本申请提供的凸多边形掩膜版的曼哈顿化掩膜生成方法、装置、介质、程序产品及终端，本申请采用缓冲区技术生成缓冲区，在区域内进行曼哈顿化，目的是将凸多边形中相邻的多条线段结合起来再进行曼哈顿化，最终可以生成较少的曼哈顿边去逼近原始掩膜图形，能够解决使用传统曼哈顿优化中的超短线段容易生成job或碎片化线段的问题。本申请还通过将凸多边形切割成左右两部分，对左右两部分同时进行曼哈顿化，可以使得最终生成的凸多边形曼哈顿化掩膜具备左右点对称性，避免二次矩形化，即节省后续掩膜打印时的切片步骤，不仅提高了生产效率，还可以避免再次生成jog。
本发明授权凸多边形掩膜版的曼哈顿化掩膜生成方法、装置、介质、程序产品及终端在权利要求书中公布了：1.一种凸多边形掩膜版的曼哈顿化掩膜生成方法，其特征在于，包括： 获取原始凸多边形掩膜版图； 对所述原始凸多边形掩膜版图中的凸多边形进行分割，以获得第一折线和第二折线； 采用缓冲区技术生成第一折线对应的第一缓冲区以及第二折线对应的第二缓冲区；其中，所述缓冲区技术包括：将第一折线按照折点拆分为若干个线段，每个线段以预设距离进行平移操作，获得每个线段的两条平行线；对所有线段的两条平行线按顺序进行连接和补充操作，生成第一折线对应的第一缓冲区；将第二折线按照折点拆分为若干个线段，每个线段以预设距离进行平移操作，获得每个线段的两条平行线；对所有线段的两条平行线按顺序进行连接和补充操作，生成第二折线对应的第二缓冲区； 基于所述第一缓冲区和第二缓冲区进行曼哈顿化处理和合并处理，得到凸多边形曼哈顿化掩膜版。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人华芯程(杭州)科技有限公司，其通讯地址为：311100 浙江省杭州市余杭区良渚街道网周路99号1幢22层2208室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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