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龙图腾网获悉北京中科聚微半导体设备有限公司申请的专利一种原子层薄膜沉积工艺设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121407062B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511990121.X，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权一种原子层薄膜沉积工艺设备是由刘传钦设计研发完成，并于2025-12-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种原子层薄膜沉积工艺设备在说明书摘要公布了：本发明公开了一种原子层薄膜沉积工艺设备，涉及原子层薄膜沉积技术领域，包括箱体和调节组件，所述箱体的后侧安置有喷气头，且箱体的下部固定有排气管，所述箱体的内部设置有隔板，所述调节组件贯穿于箱体的内部，且调节组件包括电缸。本发明通过隔板和密封板将反应空间物理分隔为前驱体腔、吹扫腔、反应腔，通过移动座精准移动载台，使产品依次进入不同腔室进行专项处理，此设计使得每个腔室可长期维持其专属气氛如前驱体、惰性气体和反应气体，减少了不同气体间的交叉污染，彻底省去了传统工艺中“排空、洗腔、充气”这一最耗时的环节，仅需在转移产品时用少量惰性气体进行界面吹扫并通过排气管排出即可，极大地缩短了循环周期。

本发明授权一种原子层薄膜沉积工艺设备在权利要求书中公布了：1.一种原子层薄膜沉积工艺设备，其特征在于，包括箱体1和调节组件5，所述箱体1的后侧安置有喷气头2，且箱体1的下部固定有排气管3，所述箱体1的内部设置有隔板4，所述调节组件5贯穿于箱体1的内部，且调节组件5包括电缸501，所述电缸501的输出端固定有推杆502，且推杆502的端部外侧套设有移动座503，所述移动座503的顶部转动连接有载台504，且移动座503两侧安置有导向杆505，并且移动座503的另外两侧对称固定有驱动框506，所述隔板4的内部抵接有压缩弹簧507，且压缩弹簧507的一端抵接有密封板508，所述密封板508两侧和箱体1的内部两侧均安置有滚轮座509，所述推杆502的端部连接有旋转组件6，且旋转组件6包括连接框601，所述连接框601的两侧抵接有缓冲弹簧602，且连接框601的中部一侧设置有齿块603，所述齿块603的一侧啮合有中心齿轮604，且中心齿轮604的内部固定有转轴605，并且转轴605与载台504固定连接，所述移动座503的内部底面固定有挡块606，所述载台504的底部安置有夹持组件7，且夹持组件7包括电机701，所述载台504的底部固定有电机701，且电机701的输出端连接有驱动齿轮702，所述驱动齿轮702的一侧啮合有齿条703，且齿条703呈弧形，并且齿条703的顶部固定连接有同步环704，所述同步环704的顶部开设有导向槽705，且导向槽705呈弧形，并且导向槽705的内部滑动连接有滑柱706，所述滑柱706的顶部安置有滑座707，且滑座707的一侧转动连接有连杆708，所述连杆708的一端转动连接有夹块709，且夹块709的两侧对称固定有凸柱710，所述载台504的顶部开设有限位槽711，且凸柱710通过限位槽711与载台504滑动连接。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人北京中科聚微半导体设备有限公司，其通讯地址为：102200 北京市昌平区科技园区振兴路2号院2号楼4层2417室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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