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深圳市西渥智控科技有限公司邱书宸获国家专利权

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龙图腾网获悉深圳市西渥智控科技有限公司申请的专利一种GPP芯片沟槽尺寸的精密光学量测方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN121383859B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511948408.6,技术领域涉及:G01B11/00;该发明授权一种GPP芯片沟槽尺寸的精密光学量测方法是由邱书宸;张光辉;徐希潇设计研发完成,并于2025-12-23向国家知识产权局提交的专利申请。

一种GPP芯片沟槽尺寸的精密光学量测方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种GPP芯片沟槽尺寸的精密光学量测方法,涉及半导体光学晶圆量测领域,包括:S1:采集低倍图像进行沟槽定位与定位置信度分数计算,输出中心坐标与方位角;S2:基于定位坐标驱动光谱共焦传感器采集高度数据,通过波形质量参数生成深度计算可信度,计算沟槽深度值;S3:基于坐标与方位角驱动高倍相机采集图像,通过边缘特征参数计算轮廓线性度评分,经择优机制选取最优轮廓后拟合直线,计算沟槽宽度;S4:基于深度计算可信度与轮廓线性度评分,生成质量等级,结合沟槽深度和沟槽宽度生成最终测量结果。通过引入多参数质量评估与智能择优机制,在保证高精度与高效率的同时,显著提升了测量结果的可靠性与环境适应性。

本发明授权一种GPP芯片沟槽尺寸的精密光学量测方法在权利要求书中公布了:1.一种GPP芯片沟槽尺寸的精密光学量测方法,其特征在于,包括: S1:采集低倍视觉图像进行沟槽区域的定位和定位置信度分数计算,输出沟槽区域的中心坐标与方位角参数; S2:基于沟槽区域的中心坐标,驱动光谱共焦传感器采集高度数据,提取波形质量参数生成深度计算可信度,当深度计算可信度满足预设条件时,计算沟槽深度值,其中,所述S2包括:基于S1输出的沟槽区域的中心坐标与方位角参数,调整承片台位置至光谱共焦激光测量装置下方;驱动光谱共焦激光测量装置沿垂直沟槽方向扫描,获得原始高度数据序列;对原始高度数据序列进行基于滑动窗口与动态阈值的自适应滤波,以抑制脉冲噪声;从滤波后的高度数据序列中,识别并分离出高面平台区域与低面平台区域;基于高面平台区域与低面平台区域,提取波形质量参数,所述波形质量参数包括:平台稳定性系数、边缘陡峭度因子和信号完备性指标;基于高面平台区域数据的统计方差,计算平台稳定性系数;基于高度数据序列在平台区域之间的跳变区间的一阶微分特征,计算边缘陡峭度因子;基于原始高度数据序列中有效数据点的占比与连续性,计算信号完备性指标;将平台稳定性系数、边缘陡峭度因子及信号完备性指标进行加权融合,生成深度计算可信度; S3:基于沟槽区域的中心坐标与方位角参数驱动高倍相机采集高倍图像进行图像分割,分别提取边缘特征参数计算轮廓线性度评分和方向一致性评分,通过择优机制选取最优边缘轮廓并进行直线拟合,计算两侧拟合直线的间距作为沟槽宽度,其中,所述S3包括:基于S1输出的沟槽区域的中心坐标与方位角参数,调整承片台位置至高倍工业相机位置,驱动高倍工业相机采集沟槽区域高倍图像;基于方位角参数对高倍图像进行方向校正与区域裁剪,分别获得包含沟槽第一侧边缘的第一宽度图像和包含沟槽第二侧边缘的第二宽度图像;从第一宽度图像和第二宽度图像中提取边缘特征参数,其中,所述边缘特征参数包括:表征灰度变化特征的灰度过渡斜率、表征纹理复杂度的纹理异质性指标,以及表征边缘结构一致性的相位一致性聚集度;基于第一宽度图像和第二宽度图像,对于每一侧边缘,基于相位一致性聚集度提取初始边缘轮廓点集;在初始边缘轮廓点集的邻域范围内,基于灰度过渡斜率与纹理异质性指标进行增强特征提取,获得增强边缘轮廓点集;分别计算初始边缘轮廓点集与增强边缘轮廓点集的轮廓线性度评分和方向一致性评分,其中,轮廓线性度评分通过计算轮廓点集与拟合直线间的残差确定,方向一致性评分通过计算轮廓点集的主方向与沟槽理论方向的夹角确定; S4:基于深度计算可信度与轮廓线性度评分,计算综合可信度分数生成质量等级,结合沟槽深度和沟槽宽度值构成沟槽尺寸生成最终测量结果。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人深圳市西渥智控科技有限公司,其通讯地址为:518000 广东省深圳市龙岗区龙城街道黄阁坑社区龙城工业园3号厂房三层12-2室;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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