湖南中伟新氢材料科技有限公司彭益智获国家专利权
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龙图腾网获悉湖南中伟新氢材料科技有限公司申请的专利高孔隙率雷尼镍电极及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121260821B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511807948.2，技术领域涉及：H01M4/90；该发明授权高孔隙率雷尼镍电极及其制备方法是由彭益智;王永靖;方鹏;冯小阳;王亚杰;唐斌设计研发完成，并于2025-12-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本高孔隙率雷尼镍电极及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种高孔隙率雷尼镍电极及其制备方法，涉及雷尼镍电极及其制备技术领域。该高孔隙率雷尼镍电极的制备方法，通过“烧结处理+特有电化学脱合金处理”的制备工艺，有效控制了脱铝速率与孔隙均匀性、稳定地制备出高孔隙率雷尼镍电极。提供一种环保型制备高孔隙率雷尼镍电极新工艺，替代传统的强碱性化学溶液的腐蚀造孔工艺，减少了污染。制得的高孔隙率雷尼镍电极具有较高的孔隙率、高达52%，且孔隙结构稳定，有效提升了电极的催化活性和机械稳定性。
本发明授权高孔隙率雷尼镍电极及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种高孔隙率雷尼镍电极的制备方法，其特征在于，包括步骤： 提供镍粉与铝粉的混合粉末；并以镍丝网为骨架，将所述混合粉末与所述镍丝网共同在800~1200℃下烧结处理，得镍丝网-铝镍合金前驱体；其中，所述镍粉与所述铝粉的质量比为1：1~4； 对所述镍丝网-铝镍合金前驱体进行电化学脱合金处理，得高孔隙率雷尼镍电极； 其中，所述电化学脱合金处理的电解液为H2SO4与NaCl混合电解液；所述H2SO4与NaCl混合电解液中的Cl-浓度为0.05~0.5M； 所述电化学脱合金处理包括初期电化学脱合金处理和后期电化学脱合金处理； 所述初期电化学脱合金处理的初期电流密度50~100mAcm2；所述后期电化学脱合金处理的后期电流密度为10~30mAcm2； 所述高孔隙率雷尼镍电极为由金属韧带构成的双连续网络结构；所述高孔隙率雷尼镍电极的孔隙率50%，所述高孔隙率雷尼镍电极的孔径呈双峰分布，所述孔径包括1~5µm的主级孔隙和小于500nm的次级孔隙。
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