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深圳市国仪兴科技有限公司张杰获国家专利权

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龙图腾网获悉深圳市国仪兴科技有限公司申请的专利一种光刻机的高精度温度控制方法及系统获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120871553B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511314566.6,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权一种光刻机的高精度温度控制方法及系统是由张杰;周超前;余圣辉设计研发完成,并于2025-09-15向国家知识产权局提交的专利申请。

一种光刻机的高精度温度控制方法及系统在说明书摘要公布了:本发明公开了一种光刻机的高精度温度控制方法及系统,属于光刻机温控技术领域,采集掩模版下表面温度阵列、曝光台承载面热流密度分布及气浮层热压差信号,并进行特征编码,构建高维热耦合态势特征矩阵;随后基于该矩阵生成动态热权重关联图谱,将曝光关键节点作为锚点,利用图神经网络对各节点间非线性热路径进行显式建模;进一步依据热权重图谱计算掩模区域单位面积热通量的空间梯度变化率,并映射至曝光台温控阵列,生成非线性控制函数曲面;根据所述控制函数动态调整局部加热单元功率输出与响应延迟参数,该方法可实现纳米级精度的动态热场均衡,有效抑制热漂移,提高光刻成像质量与先进制程的良率。

本发明授权一种光刻机的高精度温度控制方法及系统在权利要求书中公布了:1.一种光刻机的高精度温度控制方法,其特征在于:包括: 获取光刻机内部热源区域的时序热响应信号,包括掩模版下表面温度阵列、曝光台承载面微热流密度分布及支撑气浮层的多点热压差信号; 将时序热响应信号进行特征编码,构建高维热耦合态势特征矩阵; 基于所述高维热耦合态势特征矩阵构建动态热权重关联图谱,将曝光关键节点作为图谱锚点,引入多层图神经网络对各节点间潜在非线性热路径进行显式建模; 根据动态热权重关联图谱,计算掩模版下表面单位面积热通量的空间梯度变化率,并映射至曝光台实时温控单元,生成对应的非线性控制函数曲面; 依据所述非线性控制函数曲面,动态调整曝光台局部加热单元的功率输出与响应延迟参数; 将校正后温控响应特征反馈至热扰动特征矩阵中,作为下一周期热建模的初始条件,以实现连续多周期的自适应温度调控。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人深圳市国仪兴科技有限公司,其通讯地址为:518000 广东省深圳市光明区光明街道碧眼社区华强创意公园5栋A座0916;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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