浙江大学赵俊杰获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江大学申请的专利一种选择性沉积以实现图案特征尺寸缩小的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120824195B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510852277.5，技术领域涉及：H10P76/20；该发明授权一种选择性沉积以实现图案特征尺寸缩小的方法是由赵俊杰;蔡蓬哲设计研发完成，并于2025-06-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种选择性沉积以实现图案特征尺寸缩小的方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种选择性沉积以实现图案特征尺寸缩小的方法，包括如下步骤：1表面活化，将基板置于反应腔体中，利用等离子体在基板表面形成反应位点；其中，基板上具有图案化表面，包括第一表面和第二表面；第一表面为光刻胶层；第二表面为介电层、金属层、底抗反射层、掩膜层中的一种或多种；2沉积，向反应腔体中通入单体，单体与反应位点发生聚合反应，并在第一表面形成膜层；3按比例重复步骤1、2，直至基板上形成目标特征尺寸。本发明由于选择性沉积会产生平行于平面的外延生长，使得图案尺寸缩小；本申请的选择性沉积方法实现了光刻胶图案目标尺寸的高精度控制，且适用于多种单体，工艺简单，兼容性高。
本发明授权一种选择性沉积以实现图案特征尺寸缩小的方法在权利要求书中公布了：1.一种选择性沉积以实现图案特征尺寸缩小的方法，其特征在于，包括如下步骤： 在基底上形成第二表面，在第二表面上形成第一表面，通过图案化第一表面暴露部分第二表面； 1表面活化，将基板置于反应腔体中，利用等离子体在基板表面形成反应位点； 第一表面为光刻胶层； 第二表面为介电层、金属层、底抗反射层、掩膜层中的一种或多种； 2沉积，向反应腔体中通入单体，单体与反应位点发生聚合反应，并在第一表面形成膜层；单体在第一表面的沉积选择性大于90%； 沉积选择性c的计算公式为： c=a-ba+b 其中，a表示第一表面的厚度增量，b表示第二表面的厚度增量； 3按比例重复步骤1、2，直至基板上形成目标特征尺寸。
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