株式会社新川绪方佳之获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社新川申请的专利半导体装置的制造装置以及半导体装置的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115529843B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180003333.8，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权半导体装置的制造装置以及半导体装置的制造方法是由绪方佳之设计研发完成，并于2021-04-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体装置的制造装置以及半导体装置的制造方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种能够进一步提高半导体装置的品质的半导体装置的制造装置以及半导体装置的制造方法。半导体装置的制造装置包括：多个处理头，为了对共同的引线框架的互不相同的位置实施规定的处理而彼此隔开地设置，且所述多个处理头分别具有摄像机；以及控制器，控制所述多个处理头的驱动，且所述控制器将所述多个处理头分别定位在至少抵消光学偏移的位置，所述控制器在所述定位之前，先利用摄像机来拍摄一个岛部的膏糊以获取与所述多个处理头分别对应的光学检查图像，算出映照于所述光学检查图像中的岛部与膏糊的相对位置关系在所述处理头间的差异量来作为所述光学偏移。
本发明授权半导体装置的制造装置以及半导体装置的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种半导体装置的制造装置，其特征在于包括： 多个处理头，为了对共同的基板的互不相同的位置实施规定的处理而彼此隔开地设置，且所述多个处理头分别具有拍摄所述基板的摄像机；以及 控制器，控制所述多个处理头的驱动以及所述基板的搬送，且所述控制器将所述多个处理头分别相对于所述基板而定位在至少抵消因所述多个处理头中的多个摄像机之间的光学特性的偏差所引起的光学偏移的位置， 所述控制器在所述定位之前，先利用所述多个处理头各自的摄像机来拍摄包含参照物和与所述参照物隔开地设置的对象物的一个光学检查部位，以获取与所述多个处理头分别对应的光学检查图像， 并算出映照于所述光学检查图像中的所述参照物与所述对象物的相对位置关系在所述处理头间的差异量来作为所述光学偏移。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人株式会社新川，其通讯地址为：日本东京武藏村山市伊奈平二丁目51番地之1(邮递区号：208-8585)；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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