德拉克通信科技公司I·米莉瑟维克获国家专利权
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龙图腾网获悉德拉克通信科技公司申请的专利等离子体化学气相沉积装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115369380B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210540306.0，技术领域涉及：C23C16/40；该发明授权等离子体化学气相沉积装置是由I·米莉瑟维克;M·J·N·范·斯特劳伦;G·克拉比希斯;A·H·E·布勒尔斯设计研发完成，并于2022-05-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子体化学气相沉积装置在说明书摘要公布了：本发明涉及一种等离子体化学气相沉积装置，其用于将一层或多层二氧化硅沉积到长中空玻璃基管的内壁上，该装置包括微波生成器、在使用中从所述生成器接收微波的等离子体生成器、延伸穿过所述生成器的筒形腔体、以及定位于腔体中的筒形衬套，其中基管在使用中穿过衬套，其中在衬套的一部分长度上，衬套具有内径减小的至少一个区段，该至少一个区段为基管提供接触区，其中微波生成器被构造为生成波长Lw在40mm至400mm范围内的微波，其中具有减小的内径的所述至少一个区段的长度为至多0.1×Lw，并且为至少1mm。
本发明授权等离子体化学气相沉积装置在权利要求书中公布了：1.一种等离子体化学气相沉积装置，其用于将一层或多层二氧化硅沉积到长中空玻璃基管的内壁上，所述装置包括微波生成器、在使用中从所述微波生成器接收微波的等离子体生成器、延伸穿过所述等离子体生成器的筒形腔体、以及对微波辐射是透明的并且定位于所述腔体中的筒形衬套，所述衬套的中心轴线与所述腔体的中心轴线同轴，其中所述基管在使用中穿过所述衬套，其中在所述衬套的一部分长度上，所述衬套具有相对于所述衬套的剩余部分的内径具有减小的内径的至少一个区段，所述至少一个区段为所述基管提供接触区， 其中，所述微波生成器被构造为生成波长Lw在40mm至400mm范围内的微波，其中具有减小的内径的所述至少一个区段的长度为至多0.1×Lw，并且为至少1mm。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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