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龙图腾网获悉南京大学申请的专利一种暗场成像的超构显微成像器件及暗场成像方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115165748B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210891714.0，技术领域涉及：G01N21/01；该发明授权一种暗场成像的超构显微成像器件及暗场成像方法是由钱效;叶欣;孙嘉程;李涛设计研发完成，并于2022-07-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种暗场成像的超构显微成像器件及暗场成像方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种暗场成像的超构显微成像器件及暗场成像方法，所述器件包括照明模块和MIID成像模块，照明模块包括装片和置于装片一端的LED灯条1，装片中的样品将入射光散射；装片上方由下至上分别设有用于调制光偏振态的线偏振膜和四分之一波片膜，以及用于压缩光带宽的复合介质滤光膜，若样品经过荧光染色，则复合介质滤光膜还起到截止激发光的作用，成像模块接收左旋偏振态和右旋偏振态的样品暗场像合成完整的暗场像；本发明令装片充当平面波导，不增加额外的光源空间，实现了在基于超构透镜的显微成像系统中的暗场成像和暗场荧光成像，同时减小成像色差，提升分辨率。

本发明授权一种暗场成像的超构显微成像器件及暗场成像方法在权利要求书中公布了：1.一种暗场成像的超构显微成像器件，其特征在于，包括照明模块和MIID成像模块，所述照明模块包括装片2和置于装片2一端的LED灯条1，所述装片2中的样品将入射光散射；所述装片2上方由下至上分别设有线偏振膜3、四分之一波片膜和复合介质滤光膜6，所述线偏振膜3和四分之一波片膜用于调制向上散射的入射光的偏振态，所述复合介质滤光膜6用于压缩偏振态的入射光的带宽； 所述四分之一波片膜包括左四分之一波片膜4和右四分之一波片膜5，所述左四分之一波片膜4的快轴与所述线偏振膜3成+45°，所述右四分之一波片膜5的快轴与所述线偏振膜3成-45°，分别用于调制左旋圆偏振态和右旋圆偏振态；左四分之一波片膜4和右四分之一波片膜5上分别粘贴所述复合介质滤光膜6； 所述照明模块还包括用于夹持所述装片2和放置所述LED灯条1的载物板8与夹板9，所述载物板8与所述夹板9通过两块侧板11连接，所述夹板9下方设有使线偏振膜3有滑动空间的沟槽16； 所述线偏振膜3靠近所述LED灯条1的一侧设有把手17，两个所述把手17分别从所述侧板11上的缝隙18伸出，用于滑动所述线偏振膜3。

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