上海华力集成电路制造有限公司廖显煌获国家专利权
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龙图腾网获悉上海华力集成电路制造有限公司申请的专利光学邻近效应校正的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115100047B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210624948.9，技术领域涉及：G06T5/70；该发明授权光学邻近效应校正的方法是由廖显煌;曾鼎程;胡展源设计研发完成，并于2022-06-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学邻近效应校正的方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种光学邻近效应校正的方法，获取需光学邻近效应校正的目标图形和第一菜单参数，第一菜单参数用于控制目标图形校正后的模拟轮廓，模拟轮廓位于目标图形外的面积差定义为代价函数；形成与目标图形的轮廓边缘相贴合且连续的线段，设置标记点于线段上，之后利用算法生成多组不同位置的标记点，得到每组标记点对应的代价函数；选择多组代价函数中数值最小的标记点和线段的参数，并根据其得到第二菜单参数；根据第二菜单参数对目标图形进行光学邻近效应校正。本发明应用“基因算法”优化光学临近效应的菜单参数，使校正后的图形轮廓更平滑，更符合目标图形。
本发明授权光学邻近效应校正的方法在权利要求书中公布了：1.一种光学邻近效应校正的方法，其特征在于，至少包括： 步骤一、获取需光学邻近效应校正的目标图形和第一菜单参数，所述第一菜单参数用于控制所述目标图形校正后的模拟轮廓，所述模拟轮廓位于所述目标图形外的面积差定义为代价函数； 步骤二、形成与所述目标图形的轮廓边缘相贴合且连续的线段，设置所述标记点于所述线段上，之后利用基因算法通过改变所述标记点的位置和或所述线段的参数来生成多组不同的所述标记点和或线段参数组合，得到每组组合对应的所述代价函数； 步骤三、选择多组代价函数中数值最小的一组对应的所述标记点和所述线段的参数，并基于所选择的标记点和线段的参数得到第二菜单参数； 步骤四、根据第二菜单参数对所述目标图形进行光学邻近效应校正。
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