鸿海精密工业股份有限公司洪瑜亨获国家专利权
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龙图腾网获悉鸿海精密工业股份有限公司申请的专利发光装置及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115050863B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210870809.4，技术领域涉及：H10H20/01；该发明授权发光装置及其制造方法是由洪瑜亨;蔡维晟;黄耀纬;陈仕诚;郭浩中设计研发完成，并于2022-07-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本发光装置及其制造方法在说明书摘要公布了：一种制造发光装置的方法包括以下流程。形成发光元件。通过电子计算器执行超颖介面的模拟。基于前述模拟，形成超颖介面。放置超颖介面于发光元件的出光侧上。通过电子计算器执行超颖介面的模拟包括以下流程。建立超颖介面的超颖介面模型，其中超颖介面模型具有多个单位晶胞，单位晶胞的多个相位补偿值在偏折方向上以超晶胞周期长度周期性地分布。调整单位晶胞的相位补偿值并设置出光波长的光源，以模拟超颖介面模型在不同的相位补偿值下的多个穿透率。选定在穿透率的穿透率峰值下的相位补偿值作为超颖介面的多个工艺参数。如此，能降低发光元件的出光能量损耗，提升最终整合装置的效能。
本发明授权发光装置及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种制造发光装置的方法，其特征在于，包括： 形成发光元件； 通过电子计算器执行超颖介面的模拟，包括： 决定偏折方向与偏折角度； 依据该偏折角度与该发光元件的出光波长，决定该超颖介面在该偏折方向上的超晶胞周期长度； 建立该超颖介面的超颖介面模型，其中该超颖介面模型具有多个单位晶胞，所述多个单位晶胞的多个相位补偿值在该偏折方向上以该超晶胞周期长度周期性地分布； 调整所述多个单位晶胞的相位补偿值并设置该出光波长的光源，以模拟该超颖介面模型在不同的所述多个相位补偿值下的多个穿透率；以及 选定在所述多个穿透率的穿透率峰值下的所述多个相位补偿值作为该超颖介面的多个工艺参数； 基于该模拟，形成该超颖介面；以及 放置该超颖介面于该发光元件的出光侧上。
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