德里莱特公司马克·索托·赫尔内德兹获国家专利权
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龙图腾网获悉德里莱特公司申请的专利具有活性缓和剂的用于金属干式电解抛光的固体电解质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115038822B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180011666.5，技术领域涉及：C25F3/16；该发明授权具有活性缓和剂的用于金属干式电解抛光的固体电解质是由马克·索托·赫尔内德兹;马克·萨尔萨内达斯·吉姆佩拉设计研发完成，并于2021-01-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有活性缓和剂的用于金属干式电解抛光的固体电解质在说明书摘要公布了：一种用于金属干式电解抛光的固体电解质，包括：至少一种类型的离子交换树脂的活性颗粒，所述活性颗粒填充有酸溶液，以生成化学活性和电活性；至少一种类型的化学作用的缓和颗粒和或所述活性颗粒的导电性的缓和颗粒，使得所述缓和颗粒减少由所述活性颗粒的渗出物引起的位于抛光部件表面上的侵蚀。
本发明授权具有活性缓和剂的用于金属干式电解抛光的固体电解质在权利要求书中公布了：1.一种用于金属表面的干式电解抛光的固体电解质，包括： •多个活性颗粒，每个活性颗粒包含基于聚苯乙烯-二乙烯基苯PST-DVB的磺化离子交换树脂，所述活性颗粒填充有用于提供化学活性和电活性的酸溶液； •一种或多种类型的缓和颗粒，其选自： 非导体缓和颗粒，其配置为通过中断在所述活性颗粒之间形成的导电路径来降低电解质的总体导电性； 其中，所述缓和颗粒用于减少由所述活性颗粒的酸性渗出物引起的对抛光表面的不期望的电化学侵蚀。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人德里莱特公司，其通讯地址为：西班牙巴塞罗那；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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