阿合斯印前有限公司德克·卢多·朱利安·德·劳获国家专利权
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龙图腾网获悉阿合斯印前有限公司申请的专利用于曝光浮雕前体的设备和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115004112B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180010729.5，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权用于曝光浮雕前体的设备和方法是由德克·卢多·朱利安·德·劳;皮尔特·蓝森斯;弗雷德里克·德弗设计研发完成，并于2021-01-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于曝光浮雕前体的设备和方法在说明书摘要公布了：公开了一种用于曝光浮雕前体P的设备，该浮雕前体P包括基板层和至少一个光敏层，所述设备包括：第一光源1，其被配置成照射浮雕前体的第一侧；可移动的第二光源2，其被配置成照射浮雕前体的与第一侧相对的第二侧；可移动屏蔽件3，其位于第一光源与第二光源2之间，并且被配置成捕捉第二光源的透过浮雕前体P的光的至少一部分；以及移动装置，其被配置成使可移动屏蔽件与第二光源同时移动。
本发明授权用于曝光浮雕前体的设备和方法在权利要求书中公布了：1.一种用于曝光浮雕前体P的设备，所述浮雕前体P包括基板层和至少一个光敏层，所述设备包括： -第一光源1，其被配置成照射所述浮雕前体的第一侧； -可移动的第二光源2，其被配置成照射所述浮雕前体的与所述第一侧相对的第二侧； -可移动的屏蔽件3，其位于所述第一光源与所述第二光源2之间，并且被配置成捕捉所述第二光源的透过所述浮雕前体P的光的至少一部分；和 -移动装置，其被配置成使所述可移动的屏蔽件与所述第二光源同时移动。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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