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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利多源照射装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114762076B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080082809.7，技术领域涉及：H01J37/28；该发明授权多源照射装置是由S·W·H·K·斯蒂恩布林克;M·J-J·维兰德;A·V·G·曼格努斯设计研发完成，并于2020-11-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本多源照射装置在说明书摘要公布了：本文中公开了一种用于使用带电粒子照射样品的多源照射装置，该装置包括多个源401，该多个源各自被布置为发射带电粒子射束；聚光透镜403，该聚光透镜被布置为从多个源接收射束；以及操纵器阵列布置404、405，该操纵器阵列布置被配置为接收已经穿过聚光透镜的射束。射束被布置为使得：在聚光透镜的平面处，来自至少一个源的射束与来自多个源中的不同的一个源的另一射束的至少一部分相交。聚光透镜被配置为分开地大致准直从每个源接收的射束。操纵器阵列布置被配置为操纵已经被聚光透镜大致准直的射束，从而以单列的形式生成包括来自多个源的带电粒子的一个或多个射束。操纵器阵列布置包括偏转器阵列404和多射束生成器405，偏转器阵列被布置为偏转已经被所述聚光透镜大致准直的所述射束，从而生成包括来自多个源的带电粒子的多个大致平行的经大致准直的射束，其中多射束生成器被配置为：接收由偏转器阵列生成的多个大致平行的经大致准直的射束；以及依据所接收的多个大致平行的经大致准直的射束，生成多射束，其中多射束包括多个经大致准直的子射束。

本发明授权多源照射装置在权利要求书中公布了：1.一种用于使用带电粒子照射样品的多源照射装置，所述装置包括： 多个源，所述多个源各自被布置为发射带电粒子射束； 聚光透镜，被布置为从所述多个源接收射束；以及 操纵器阵列布置，被配置为接收已经穿过所述聚光透镜的射束； 其中 所述射束被布置为使得：在所述聚光透镜的平面处，来自至少一个源的射束与来自所述多个源中的不同的一个源的另一射束的至少一部分相交； 所述聚光透镜被配置为分开地准直从每个源接收的射束；并且 所述操纵器阵列布置被配置为：操纵已经被所述聚光透镜准直的射束，从而以单列的形式生成包括来自所述多个源的带电粒子的一个或多个射束，所述操纵器阵列布置包括偏转器阵列和多射束生成器，所述偏转器阵列被布置为偏转已经被所述聚光透镜准直的所述射束，从而生成包括来自所述多个源的带电粒子的多个平行的经准直的射束，其中所述多射束生成器被配置为： -接收由所述偏转器阵列生成的所述多个平行的经准直的射束；以及 -依据所接收的多个平行的经准直的射束中的每个射束，生成子射束的多射束，其中所述多射束包括多个经准直的子射束。

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