深圳市速腾聚创科技有限公司朱琳获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市速腾聚创科技有限公司申请的专利一种刻蚀深度获取方法、装置、存储介质及激光雷达获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114698384B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080005429.3，技术领域涉及：G02B6/13；该发明授权一种刻蚀深度获取方法、装置、存储介质及激光雷达是由朱琳;任亚林;汪敬;牛犇;篠原磊磊设计研发完成，并于2020-10-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种刻蚀深度获取方法、装置、存储介质及激光雷达在说明书摘要公布了：本申请公开一种刻蚀深度获取方法、装置、存储介质及激光雷达，其中方法包括：获取目标刻蚀深度在光信号的中心波长下对应的目标耦合长度比值，所述目标刻蚀深度为在多个刻蚀深度中选取的对波导进行刻蚀的任一度量值；当所述目标耦合长度比值为比值集合中数值最小的耦合长度比值时，将所述目标刻蚀深度确定为对波导进行刻蚀处理的波导刻蚀深度；所述比值集合包括多个刻蚀深度中各刻蚀深度对应的耦合长度比值，所述耦合长度比值为通过各刻蚀深度对应的光折射率以及所述光折射率随所述中心波长的偏移变化的敏感程度值得到的。采用本申请，可以保证光耦合器的工作稳定性，进而保证激光雷达系统的稳定性。
本发明授权一种刻蚀深度获取方法、装置、存储介质及激光雷达在权利要求书中公布了：1.一种刻蚀深度获取方法，其特征在于，包括： 获取目标刻蚀深度在光信号的中心波长下对应的目标耦合长度比值，所述目标刻蚀深度为在多个刻蚀深度中选取的对波导进行刻蚀的任一度量值； 当所述目标耦合长度比值为比值集合中数值最小的耦合长度比值时，将所述目标刻蚀深度确定为对波导进行刻蚀处理的波导刻蚀深度； 所述比值集合包括多个刻蚀深度中各刻蚀深度对应的耦合长度比值，所述耦合长度比值为通过各刻蚀深度对应的光折射率以及所述光折射率随所述中心波长的偏移变化的敏感程度值得到的。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人深圳市速腾聚创科技有限公司，其通讯地址为：518000 广东省深圳市南山区留仙大道3370号南山智园崇文园区3栋10-11层；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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