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东亚合成株式会社后藤彰宏获国家专利权

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龙图腾网获悉东亚合成株式会社申请的专利分散剂和研磨剂组合物获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114641850B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080069040.5,技术领域涉及:H10P52/00;该发明授权分散剂和研磨剂组合物是由后藤彰宏;井村纱知子;中野骏;坪内隆太郎设计研发完成,并于2020-09-28向国家知识产权局提交的专利申请。

分散剂和研磨剂组合物在说明书摘要公布了:本发明涉及分散剂和研磨剂组合物。在选自绝缘层和配线层中的至少任一者的表面平坦化中使用的化学机械研磨用分散剂中,含有具有聚合物嵌段A和聚合物嵌段B的嵌段共聚物P。嵌段共聚物P如下所述。1聚合物嵌段A具有:源自选自含酰胺基的乙烯基单体和含酯基的乙烯基单体中的至少1种的结构单元,聚合物嵌段B具有:具有离子性官能团的结构单元。2聚合物嵌段A、B具有:具有离子性官能团的结构单元,嵌段共聚物P满足条件I和条件II中的至少一者。3聚合物嵌段A、B具有源自式1所示的乙烯基单体的结构单元。式1:CH2=CR1‑C=O‑NR2‑R3。

本发明授权分散剂和研磨剂组合物在权利要求书中公布了:1.一种分散剂,其为在选自绝缘层和配线层中的至少任一者的表面平坦化中使用的化学机械研磨用分散剂, 所述分散剂含有具有聚合物嵌段A和聚合物嵌段B的嵌段共聚物P, 所述聚合物嵌段A和所述聚合物嵌段B各自具有:源自下述式1所示的乙烯基单体的结构单元,下述式1所示的乙烯基单体为选自甲基丙烯酰胺、N-甲基甲基丙烯酰胺、N-乙基甲基丙烯酰胺、N,N-二甲基甲基丙烯酰胺、N,N-二乙基甲基丙烯酰胺、N-乙基-N-甲基甲基丙烯酰胺、4-甲基丙烯酰基吗啉、2-羟基乙基丙烯酰胺、和2-甲基丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸或其盐中的至少1种, 所述嵌段共聚物P中的所述聚合物嵌段A与所述聚合物嵌段B的比率AB以质量比计为1090~9010,以所述嵌段共聚物P的数均分子量Mn与重均分子量Mw之比表示的分子量分散度MwMn为2.0以下,聚合物嵌段A的数均分子量Mn为1,000以上且200,000以下的范围, CH2=CR1-C=O-NR2-R3…1 在式1中,R1为氢原子或甲基;R2和R3各自独立地为氢原子、或者取代或未取代的1价烃基,或者R2与R3为彼此键合而与R2和R3所键合的氮原子一起形成环的基团。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人东亚合成株式会社,其通讯地址为:日本国东京都港区西新桥一丁目14番1号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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