TCL华星光电技术有限公司陈都获国家专利权
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龙图腾网获悉TCL华星光电技术有限公司申请的专利曝光装置及其组合光罩获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114167678B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111504377.7,技术领域涉及:G03F1/00;该发明授权曝光装置及其组合光罩是由陈都设计研发完成,并于2021-12-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本曝光装置及其组合光罩在说明书摘要公布了:本申请实施例公开了一种曝光装置及其组合光罩,其中,组合光罩包括:第一金属层,所述第一金属层上开设有多个第一透光孔;第二金属层,与所述第一金属层相对设置,所述第二金属层上开设有多个第二透光孔,所述第二透光孔沿光轴与所述第一透光孔对应设置。本申请通过多层金属层滤除光束中的斜向光,保证光束内各光线均沿光轴方向传播,增加了光束内各光线的平行度,使得激光光束的分散性更低,进而使得激光光束在大间隙下也能进行精准刻蚀。解决了现有技术中目前接近式曝光机的光路平行度不高,导致形成的激光光束较为分散,需要使用较低间隙的技术问题。
本发明授权曝光装置及其组合光罩在权利要求书中公布了:1.一种组合光罩,其特征在于,包括: 第一光罩,所述第一光罩包括第一金属层,所述第一金属层上开设有多个第一透光孔; 第二光罩,所述第二光罩包括第二金属层,所述第二金属层与所述第一金属层相对设置,所述第二金属层上开设有多个第二透光孔,所述第二透光孔沿光轴与所述第一透光孔对应设置,所述第一透光孔的孔径不大于所述第二透光孔的孔径; 其中,所述第二光罩和所述第一光罩均会使激光的光束角减小,在进行刻蚀时,所述激光先穿过所述第二光罩,再穿过所述第一光罩。
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