东京毅力科创株式会社桑原有生获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利导热性构件、等离子体处理装置以及电压控制方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN112837986B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202011270560.0,技术领域涉及:H01J37/32;该发明授权导热性构件、等离子体处理装置以及电压控制方法是由桑原有生设计研发完成,并于2020-11-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本导热性构件、等离子体处理装置以及电压控制方法在说明书摘要公布了:本发明提供一种导热性构件、等离子体处理装置以及电压控制方法,该导热性构件能够稳定地传递热,且容易进行维护。提供一种导热性构件,设置于等离子体处理装置中,所述等离子体处理装置具有:第一静电吸盘,其用于在提供等离子体处理空间的处理容器内载置基板;第二静电吸盘,其设置于所述第一静电吸盘的外周;边缘环,其以包围载置所述基板的区域的方式设置于所述第二静电吸盘之上,该边缘环的至少一部分由导电性构件构成;以及边缘环用电极,其被施加用于在所述第二静电吸盘的内部的与所述边缘环对应的区域对所述边缘环进行静电吸附的电压,其中,所述导热性构件配置在所述第二静电吸盘与所述边缘环之间。
本发明授权导热性构件、等离子体处理装置以及电压控制方法在权利要求书中公布了:1.一种等离子体处理装置,具有: 静电吸盘; 边缘环,其以包围载置基板的区域的方式设置于所述静电吸盘之上,该边缘环的至少一部分由导电性构件构成; 具有介电性的聚合物薄片,其配置在所述静电吸盘与所述边缘环之间,并与所述静电吸盘的上表面及所述边缘环的下表面贴合;以及 边缘环用电极,其被施加用于在所述静电吸盘的内部的与所述边缘环对应的区域对所述边缘环进行静电吸附的电压, 所述聚合物薄片不具有粘附性,所述聚合物薄片的介电常数为20以上,并且所述聚合物薄片的厚度为0.5mm以下。
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