上海芯立电子科技有限公司郭杰获国家专利权
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龙图腾网获悉上海芯立电子科技有限公司申请的专利一种注入机用静电吸附式离子束准直组件获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224053132U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520740843.9，技术领域涉及：H01J37/147；该实用新型一种注入机用静电吸附式离子束准直组件是由郭杰;辛奇;秦宝宏设计研发完成，并于2025-04-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种注入机用静电吸附式离子束准直组件在说明书摘要公布了：本实用新型涉及注入机技术领域，公开了一种注入机用静电吸附式离子束准直组件，包括处理箱，所述处理箱的顶端贴合设置有活动盖，所述处理箱的内部设置有便于更换的固定组件，所述固定组件包括第一吸附垫和第二吸附垫，所述处理箱内壁两侧的顶部和底部均开设有内置槽。该注入机用静电吸附式离子束准直组件通过设置有第一吸附垫、第二吸附垫、安装外板、内置槽、固定座和粘贴层，避免使用期间连接处发生松动，加强整体结构的固定性，避免位移降低吸附力，解决的是静电吸附离子处理结构无法对吸附层进行限位固定，当吸附层发生位移大大降低吸附力影响加工效果，导致离子束的传输轨迹发生变化，无法实现对离子束的聚焦问题。
本实用新型一种注入机用静电吸附式离子束准直组件在权利要求书中公布了：1.一种注入机用静电吸附式离子束准直组件，包括处理箱1，其特征在于：所述处理箱1的顶端贴合设置有活动盖7，所述处理箱1的内部设置有便于更换的固定组件； 所述固定组件包括第一吸附垫5和第二吸附垫11，所述处理箱1内壁两侧的顶部和底部均开设有内置槽4，所述第一吸附垫5位于处理箱1内部的左侧，所述第二吸附垫11位于处理箱1内部的右侧，所述第一吸附垫5和第二吸附垫11外侧的顶部和底部均固定连接有安装外板12，所述内置槽4内部的外侧固定连接有固定座13，所述安装外板12插入内置槽4中，并插合连接在固定座13的内部。
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